[發(fā)明專利]蒸鍍掩模、蒸鍍掩模形成用聚酰胺酸、蒸鍍掩模形成用層疊體及蒸鍍掩模的制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910167025.3
• 申請(qǐng)日: 2019-03-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110241389A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-09-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安藤智典;平石克文
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日鐵化學(xué)材料株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24;C23C14/04;C08G73/10
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 彭雪瑞;臧建明

1.一種蒸鍍掩模，其為用于在被蒸鍍體上蒸鍍形成固定形狀的薄膜圖案的蒸鍍掩模，且其特征在于包括：

金屬層，具有多個(gè)開(kāi)口部；以及

單層或多層的聚酰亞胺層，層疊于所述金屬層上且具有位于所述開(kāi)口部的開(kāi)口范圍內(nèi)的貫通孔，并且所述貫通孔形成與所述薄膜圖案對(duì)應(yīng)的開(kāi)口圖案，并且

所述金屬層的熱膨脹系數(shù)為5ppm/K以上且15ppm/K以下的范圍內(nèi)，

所述聚酰亞胺層的熱膨脹系數(shù)相對(duì)于所述金屬層的熱膨脹系數(shù)而為±5ppm/K的范圍內(nèi)，且所述聚酰亞胺層的拉伸彈性模量為4.5GPa以上且小于8GPa的范圍內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其特征在于：所述聚酰亞胺層的長(zhǎng)度方向的熱膨脹系數(shù)、與寬度方向的熱膨脹系數(shù)的差為±2.5ppm/K以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蒸鍍掩模，其特征在于：構(gòu)成所述聚酰亞胺層的聚酰亞胺含有由酸酐成分衍生的酸酐殘基、以及由二胺成分衍生的二胺殘基，并且

相對(duì)于所述酸酐殘基的合計(jì)100摩爾份而含有50摩爾份以上的由均苯四甲酸二酐衍生的酸酐殘基，

相對(duì)于所述二胺殘基的合計(jì)100摩爾份，而在50摩爾份以上且90摩爾份以下的范圍內(nèi)含有由下述通式(1)所表示的二胺化合物衍生的二胺殘基，以及在10摩爾份以上且50摩爾份以下的范圍內(nèi)含有由下述通式(a)～通式(d)所表示的至少一種二胺化合物衍生的二胺殘基，

通式(1)中，取代基Y獨(dú)立地表示可經(jīng)鹵素原子取代的碳數(shù)1～3的烷基或烷氧基或者碳數(shù)2～3的烯基，p及q獨(dú)立地表示0～4的整數(shù)；

通式(a)～通式(d)中，取代基R₁獨(dú)立地表示碳數(shù)1～4的一價(jià)烴基或烷氧基，連結(jié)基A獨(dú)立地表示-O-、-S-、-CO-、-SO-、-SO₂-、-COO-、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-NH-或-CONH-，連結(jié)基B表示單鍵或-C(CH₃)₂-，n1獨(dú)立地表示0～4的整數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其特征在于：所述聚酰亞胺層由單層構(gòu)成。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其特征在于：所述金屬層含有鎳元素作為主成分。

6.一種蒸鍍掩模形成用聚酰胺酸，其為蒸鍍掩模中的聚酰亞胺層的形成中所使用的蒸鍍掩模形成用聚酰胺酸，所述蒸鍍掩模包括：金屬層，具有多個(gè)開(kāi)口部；以及單層或多層的所述聚酰亞胺層，層疊于所述金屬層上且具有位于所述開(kāi)口部的開(kāi)口范圍內(nèi)的貫通孔，并且所述貫通孔形成與薄膜圖案對(duì)應(yīng)的開(kāi)口圖案，并且所述蒸鍍掩模用于在被蒸鍍體上蒸鍍形成固定形狀的所述薄膜圖案，所述蒸鍍掩模形成用聚酰胺酸的特征在于：

所述金屬層的熱膨脹系數(shù)為5ppm/K以上且15ppm/K以下的范圍內(nèi)，

所述聚酰亞胺層的熱膨脹系數(shù)相對(duì)于所述金屬層的熱膨脹系數(shù)而為±5ppm/K的范圍內(nèi)，且所述聚酰亞胺層的拉伸彈性模量為4.5GPa以上且小于8GPa的范圍內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍掩模形成用聚酰胺酸，其特征在于：所述聚酰亞胺層的長(zhǎng)度方向的熱膨脹系數(shù)、與寬度方向的熱膨脹系數(shù)的差為±2.5ppm/K以下。