[發明專利]光束掃描設備及包括其的光學設備

在審

• 申請號: 201910166850.1
• 申請日: 2019-03-06
• 公開（公告）號: CN110297372A
• 公開（公告）日: 2019-10-01
• 發明（設計）人: 樸晶鉉;金楨祐;鄭秉吉;申昶均;崔秉龍
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: G02F1/29
• 分類號: G02F1/29;G01S7/481
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 翟然

1.一種光束掃描設備，包括：

配置為發射光的光源；以及

反射相控陣裝置，其被配置為反射自所述光源發射且入射在所述反射相控陣裝置上的光并電調節被所述反射相控陣裝置反射的反射光的反射角，

其中，所述光源和所述反射相控陣裝置被設置使得所述光以相對于所述反射相控陣裝置的反射表面的法線的入射角入射在所述反射相控陣裝置上。

2.如權利要求1所述的光束掃描設備，其中，所述光源和所述反射相控陣裝置被設置使得入射在所述反射相控陣裝置上的所述光和由所述反射相控陣裝置反射的所述反射光彼此不重疊。

3.如權利要求1所述的光束掃描設備，其中，所述反射相控陣裝置包括多個天線共振器，所述多個天線共振器中的每個被獨立驅動。

4.如權利要求3所述的光束掃描設備，其中所述多個天線共振器中的每個包括：

電極層；

設置在所述電極層上的有源層；

設置在所述有源層上與所述電極層背對的絕緣層；以及

設置在所述絕緣層上與所述有源層背對的天線層。

5.如權利要求4所述的光束掃描裝置，其中，所述電極層包括被配置為反射從所述光源發射的光的導電金屬。

6.如權利要求4所述的光束掃描設備，其中，所述天線層具有魚骨形狀，且包括在第一方向上延伸的第一天線部分以及沿所述第一方向設置并且在第二方向上從所述第一天線部分延伸的多個第二天線部分。

7.如權利要求6所述的光束掃描設備，其中，所述反射光包括由所述反射相控陣裝置直接反射的直接反射光以及基于所述反射相控陣裝置的所述多個天線共振器中的每個中的共振而產生的共振散射光，

其中，所述多個第二天線部分中的每個在所述第一方向上的長度被確定，使得所述直接反射光的強度等于所述共振散射光的強度。

8.如權利要求7所述的光束掃描設備，其中，所述多個第二天線部分中的每個在所述第一方向上的長度基于所述光的所述入射角確定。

9.如權利要求4所述的光束掃描設備，其中，所述天線層包括多個天線層，以及

其中所述多個天線層中的每個在第一方向上延伸，并且在垂直于所述第一方向的第二方向上以預定的間隔設置。

10.如權利要求9所述的光束掃描設備，其中，所述反射光包括由所述反射相控陣裝置直接反射的直接反射光以及基于所述反射相控陣裝置的所述多個天線共振器中的每個中的共振而產生的共振散射光，

其中，所述第二方向上的所述多個天線層之間的間隔和天線周期至少一者被確定，使得所述直接反射光的強度等于所述共振散射光的強度，以及

其中，所述天線周期是一長度，所述多個天線層在所述第二方向上以該長度重復。

11.如權利要求10所述的光束掃描設備，其中，所述多個天線層之間的所述間隔和所述天線周期至少一者基于入射在所述反射相控陣裝置上的所述光的所述入射角確定。

12.如權利要求10所述的光束掃描設備，其中，所述多個天線層之間的所述間隔和所述天線周期至少一者小于相應于垂直入射在所述反射相控陣裝置上的光的多個天線層之間的間隔或天線周期。

13.如權利要求10所述的光束掃描設備，其中，隨著入射在所述反射相控陣裝置上的所述光的所述入射角增大，所述多個天線層之間的所述間隔和所述天線周期至少一者減小。

14.如權利要求10所述的光束掃描設備，其中，基于施加至所述反射相控陣裝置的電壓和入射在所述反射相控陣裝置上的所述光的波長，所述多個天線層之間的間隔和天線周期至少一者被確定，使得所述直接反射光的強度等于所述共振散射光的強度。