[發(fā)明專利]獲得結(jié)構(gòu)探測顯微成像系統(tǒng)的最優(yōu)結(jié)構(gòu)探測函數(shù)的裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910162043.2 | 申請日: | 2019-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN109883955B | 公開(公告)日: | 2021-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 倪赫;鄒麗敏;李博;尹哲;譚久彬 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/17 | 分類號: | G01N21/17;G01N21/01 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109 | 代理人: | 畢雅鳳 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 獲得 結(jié)構(gòu) 探測 顯微 成像 系統(tǒng) 最優(yōu) 函數(shù) 裝置 方法 | ||
獲得結(jié)構(gòu)探測顯微成像系統(tǒng)的最優(yōu)結(jié)構(gòu)探測函數(shù)的裝置及方法,涉及顯微成像領(lǐng)域,為了解決現(xiàn)有結(jié)構(gòu)探測顯微成像系統(tǒng)中結(jié)構(gòu)探測函數(shù)不是最優(yōu)結(jié)構(gòu)探測函數(shù),從而成像分辨率低的問題。本發(fā)明的方法包括:步驟一、在空間光調(diào)制器的調(diào)制面上隨機生成一個調(diào)制圖像作為初始的結(jié)構(gòu)探測函數(shù);步驟二、獲得重構(gòu)的圖像信息和各采樣點光斑的光強分布信息;步驟三、根據(jù)重構(gòu)的圖像與標(biāo)準(zhǔn)樣品逐點比較獲得的總誤差、各采樣點光斑的光強分布信息調(diào)整結(jié)構(gòu)探測函數(shù),得到調(diào)整后的結(jié)構(gòu)探測函數(shù),然后更新空間光調(diào)制器的結(jié)構(gòu)探測函數(shù)并返回步驟二,直至得到的結(jié)構(gòu)探測函數(shù)為最優(yōu)結(jié)構(gòu)探測函數(shù)。適用于獲得結(jié)構(gòu)探測顯微成像系統(tǒng)的最優(yōu)結(jié)構(gòu)探測函數(shù)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯微成像領(lǐng)域,具體涉及基于空間光調(diào)制器獲得結(jié)構(gòu)探測顯微成像系統(tǒng)的最優(yōu)結(jié)構(gòu)探測函數(shù)的技術(shù)。
背景技術(shù)
光學(xué)顯微術(shù)是一種歷史悠久且十分重要的無破壞性技術(shù),被廣泛應(yīng)用于生物和材料科學(xué)等領(lǐng)域。
2009年,美國哈佛大學(xué)謝曉亮、Jeff W.Lichtman課題組在NanoLetters雜志上發(fā)表論文,提出掃描圖案探測顯微技術(shù),通過將探測調(diào)制和非解掃單元探測器完成的空間累積成像相結(jié)合來實現(xiàn)空間調(diào)制。仿真分析得出,在熒光非相干成像情況下,橫向分辨率均可達(dá)到普通顯微系統(tǒng)的2倍。
中國公開號為105547145A、名稱為一種超分辨結(jié)構(gòu)探測相干成像裝置及其成像方法的專利文件,將結(jié)構(gòu)探測成像方法與相干顯微系統(tǒng)相結(jié)合,提高了相干成像系統(tǒng)的空間截止頻率,拓寬了空間頻域帶寬,從而顯著改善了成像系統(tǒng)橫向分辨力。
中國公開號為106767400A、名稱為一種基于空間光調(diào)制器的結(jié)構(gòu)探測顯微成像方法及裝置的專利文件,采用空間光調(diào)制器模擬結(jié)構(gòu)探測函數(shù),對探測光斑進(jìn)行調(diào)制,之后利用光電探測器測量調(diào)制后的光強,得到與待測樣品采樣點相對應(yīng)的光強值,結(jié)合顯微系統(tǒng)的掃描機制,可實現(xiàn)對待測樣品的三維成像。解決了以往顯微成像圖片采集速率低、圖像處理時間長的問題。然而,并不能保證所采用的結(jié)構(gòu)探測函數(shù)為最優(yōu)結(jié)構(gòu)探測函數(shù),導(dǎo)致成像分辨率低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有結(jié)構(gòu)探測顯微成像系統(tǒng)中結(jié)構(gòu)探測函數(shù)不是最優(yōu)結(jié)構(gòu)探測函數(shù),從而成像分辨率低的問題,從而提供獲得結(jié)構(gòu)探測顯微成像系統(tǒng)的最優(yōu)結(jié)構(gòu)探測函數(shù)的裝置及方法。
本發(fā)明所述的獲得結(jié)構(gòu)探測顯微成像系統(tǒng)的最優(yōu)結(jié)構(gòu)探測函數(shù)的裝置,包括激光器1、標(biāo)準(zhǔn)樣品8、空間光調(diào)制器12、分光棱鏡14、光電探測器15和CCD16;
激光器1發(fā)出的激光經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)樣品8反射后入射至空間光調(diào)制器12,經(jīng)空間光調(diào)制器12調(diào)制后入射至分光棱鏡14,分光棱鏡14將光束分為兩束,一束入射至光電探測器15,獲得重構(gòu)的圖像信息,另一束入射至CCD16,獲得光斑的光強分布信息。
優(yōu)選的是,還包括擴(kuò)束器2、線偏振器3、偏振分光棱鏡4、1/4波片5、反射鏡6、物鏡7、二維壓電陶瓷9、第一收集透鏡10、放大鏡頭11和第二收集透鏡13;
激光器1發(fā)出的激光被擴(kuò)束器2擴(kuò)束后經(jīng)過線偏振器3,再通過偏振分光棱鏡4透射至1/4波片5,經(jīng)反射鏡6反射至物鏡7,激光經(jīng)物鏡7聚焦于標(biāo)準(zhǔn)樣品8表面,二維壓電陶瓷9帶動標(biāo)準(zhǔn)樣品8移動,實現(xiàn)聚焦光斑對標(biāo)準(zhǔn)樣品8進(jìn)行二維掃描;
標(biāo)準(zhǔn)樣品8的反射光依次經(jīng)過物鏡7、反射鏡6和1/4波片5后,經(jīng)偏振分光棱鏡4反射至第一收集透鏡10,第一收集透鏡10將反射光聚焦至放大鏡頭11,經(jīng)放大鏡頭11放大后的反射光入射至空間光調(diào)制器12,反射光經(jīng)空間光調(diào)制器12調(diào)制后被第二收集透鏡13聚焦,分光棱鏡14將聚焦光束分為兩束,一束入射至光電探測器15,另一束入射至CCD16。
優(yōu)選的是,放大鏡頭11為10x鏡頭。
本發(fā)明所述的獲得結(jié)構(gòu)探測顯微成像系統(tǒng)的最優(yōu)結(jié)構(gòu)探測函數(shù)的方法,該方法包括:
步驟一、在空間光調(diào)制器12的調(diào)制面上隨機生成一個調(diào)制圖像作為初始的結(jié)構(gòu)探測函數(shù);
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
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- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





