[發(fā)明專利]成像光譜儀的線性漸變?yōu)V光片檢測(cè)裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910156114.8
• 申請(qǐng)日: 2019-03-01
• 公開（公告）號(hào): CN109799077A
• 公開（公告）日: 2019-05-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 薛浩;鄭玉權(quán);藺超;紀(jì)振華;王龍;韋躍峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
• 主分類號(hào): G01M11/02
• 分類號(hào): G01M11/02
• 代理公司: 深圳市科進(jìn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44316
• 代理人: 曹衛(wèi)良

1.成像光譜儀的線性漸變?yōu)V光片檢測(cè)裝置，其特征在于，包括白色光源(6)、第一反射鏡(7)、第二反射鏡(5)、線性漸變?yōu)V光片(3)、第三反射鏡(2)、光闌組件(1)、第四反射鏡(9)、精密位移臺(tái)(4)、檢測(cè)模塊；

所述白色光源(6)發(fā)射基準(zhǔn)光，

所述基準(zhǔn)光經(jīng)所述第一反射鏡(7)準(zhǔn)直，再經(jīng)第二反射鏡(5)匯聚后，入射到線性漸變?yōu)V光片的入射狹縫處，在線性漸變?yōu)V光片(3)的待測(cè)表面第一次成像；

透射過所述線性漸變?yōu)V光片(3)的基準(zhǔn)光經(jīng)所述第三反射鏡(2)準(zhǔn)直，再經(jīng)第四反射鏡(9)匯聚后，在所述檢測(cè)模塊上第二次成像并輸出線性漸變?yōu)V光片的單點(diǎn)檢測(cè)光譜特性；

所述精密位移臺(tái)(4)與線性漸變?yōu)V光片(3)連接，用于調(diào)整線性漸變?yōu)V光片(3)的位置，實(shí)現(xiàn)對(duì)線性漸變?yōu)V光片(3)的多點(diǎn)掃描測(cè)量，得出線性漸變?yōu)V光片(3)的光譜特性分布規(guī)律。

2.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀的線性漸變?yōu)V光片檢測(cè)裝置，其特征在于，所述第二反射鏡(5)和線性漸變?yōu)V光(3)片之間設(shè)置斬波器(8)，用于將連續(xù)基準(zhǔn)光調(diào)成固定頻率的光。

3.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀的線性漸變?yōu)V光片檢測(cè)裝置，其特征在于，所述第三反射鏡(2)和第四反射鏡(9)之間設(shè)置光闌組件(1)，用于控制基準(zhǔn)光的通過量。

4.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀的線性漸變?yōu)V光片檢測(cè)裝置，其特征在于，所述的檢測(cè)模塊包括單色儀(11)、光電倍增管(10)、鎖相放大器(12)，

所述光電倍增管(10)連接在單色儀(11)的出射狹縫處，

所述鎖相放大器(12)與光電倍增管(10)連接，

所述基準(zhǔn)光經(jīng)過第四反射鏡(9)匯聚后，在所述單色儀(11)的入射狹縫處第二次成像；

進(jìn)入到所述單色儀(11)的基準(zhǔn)光經(jīng)過單色儀(11)分光后，由單色儀(11)的出射狹縫經(jīng)光電倍增管(10)輸出到鎖相放大器(12)中。

5.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀的線性漸變?yōu)V光片檢測(cè)裝置，其特征在于，所述白色光源(6)為激光。

6.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀的線性漸變?yōu)V光片檢測(cè)裝置，其特征在于，所述第一反射鏡(7)、第二反射鏡(5)、第三反射鏡(2)、第四反射鏡(9)均為拋物面反射鏡。