[發(fā)明專利]一種高強型輕質(zhì)浮力材料的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910154051.2 | 申請日: | 2019-03-01 |
| 公開(公告)號: | CN110016204A | 公開(公告)日: | 2019-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 谷佑芽 | 申請(專利權(quán))人: | 谷佑芽 |
| 主分類號: | C08L63/00 | 分類號: | C08L63/00;C08K9/10;C08K7/24;C08K3/04;C08J9/30 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 421500 湖南省衡陽*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 浮力材料 纖維材料 輕質(zhì) 微珠 填充 包覆 制備 表面形成 玻璃微粉 玻璃微珠 材料內(nèi)部 改善材料 加強材料 交織結(jié)構(gòu) 緊密堆積 均勻負(fù)載 抗壓性能 空心微球 力學(xué)性能 三維網(wǎng)狀 微球材料 細(xì)小纖維 纖維填充 支撐骨架 靜水壓 填充量 纖維狀 振蕩 拉絲 熔融 力學(xué) | ||
1.一種高強型輕質(zhì)浮力材料的制備方法,其特征在于具體制備步驟為:
(1)按重量份數(shù)計,分別稱量45~50份去離子水、10~15份羧甲基纖維素和10~15份硼鋁硅酸鹽玻璃粉末置于研缽中,研磨分散并收集分散漿液,再按質(zhì)量比1∶1,將空心微球顆粒與分散漿液攪拌混合,過濾并收集濾餅,將濾餅干燥,收集干燥顆粒并升溫加熱、保溫熔融后,將表層熔融顆粒置于模具中,保溫振蕩,收集表面拉絲微球顆粒并靜置冷卻至室溫,得填充填料,將填充填料破碎,收集破碎填料;
(2)按質(zhì)量比1∶100,將多壁碳納米管添加至無水乙醇中,攪拌混合并超聲分散處理10~15min,收集得分散混合液并將分散混合液添加至環(huán)氧樹脂中,再在75~85℃下保溫攪拌2~3h,待攪拌完成后,再干燥處理,得復(fù)合環(huán)氧樹脂;
(3)按重量份數(shù)計,分別稱量45~50份復(fù)合環(huán)氧樹脂、3~5份稀釋劑692、1~2份固化劑Mc-THPA、0.5~1.0份催化劑DMP-30和1~2份脫泡劑BYK530,攪拌混合并置于真空烘箱中,靜置脫泡得基體液,按質(zhì)量比1∶5,將破碎填料添加至基體液中,攪拌混合并置于真空捏合機中,捏合均勻并澆注至模具中,靜置固化并脫模,即可制備得所述的高強型輕質(zhì)浮力材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強型輕質(zhì)浮力材料的制備方法,其特征在于:步驟(1)所述的硼鋁硅酸鹽玻璃粉末粒徑為500目。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強型輕質(zhì)浮力材料的制備方法,其特征在于:步驟(1)所述的空心微球顆粒制備步驟為:取油頁巖灰渣并球磨粉碎,過200目篩并收集球磨粉末,將球磨粉末置于250~300℃下預(yù)熱1~2h后,收集得活化顆粒并用乙炔/氧氣進行火焰噴槍熔射處理,用去離子水降溫并晾干,過濾噴吹收集空心微球顆粒。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強型輕質(zhì)浮力材料的制備方法,其特征在于:步驟(1)所述的升溫加熱、保溫熔融為按5℃/min升溫至750~800℃,保溫熔融15~20min。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強型輕質(zhì)浮力材料的制備方法,其特征在于:步驟(1)所述的振蕩速率為20r/min。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強型輕質(zhì)浮力材料的制備方法,其特征在于:步驟(2)所述的多壁碳納米管為直徑為15nm、長度為15nm的多壁碳納米管。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強型輕質(zhì)浮力材料的制備方法,其特征在于:步驟(2)所述的分散混合液和環(huán)氧樹脂之間比例為1∶10。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強型輕質(zhì)浮力材料的制備方法,其特征在于:步驟(2)所述的干燥處理為在真空干燥箱中于75~85℃下保溫10~12h。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強型輕質(zhì)浮力材料的制備方法,其特征在于:步驟(2)所述的環(huán)氧樹脂為環(huán)氧樹脂E-51和環(huán)氧樹脂E-44中的任意一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高強型輕質(zhì)浮力材料的制備方法,其特征在于:所述的火焰噴槍熔射處理條件為控制氧氣壓強為0.7~0.8MPa、乙炔壓強為0.1~0.2MPa,熔射處理10~15min。
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