[發明專利]一種物鏡裝置

有效

• 申請號: 201910150666.8
• 申請日: 2019-02-28
• 公開（公告）號: CN111624731B
• 公開（公告）日: 2021-12-10
• 發明（設計）人: 毛辰奇;楊志斌
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

本發明公開了一種物鏡裝置。該物鏡裝置包括：光線傳播單元、氣體供給單元和控制單元；光線傳播單元包括沿光線傳播方向依次排列的第一鏡組、波前補償器和第二鏡組；第一鏡組和/或第二鏡組中設置有第一壓力感應單元，波前補償器內設置有第二壓力感應單元，第一壓力感應單元與第二壓力感應單元分別與控制單元連接；氣體供給單元用于輸出具有預設壓力穩定度與預設純度的氣體至波前補償器；控制單元用于根據第一壓力感應單元探測到的第一壓力值與第二壓力感應單元探測到的第二壓力值調節氣體供給單元的氣體輸出量，以使第一壓力值與第二壓力值的差值在預設壓差閾值范圍內。由此，可提高開放環境中的氣體穩定性，有利于提高物鏡裝置的光學性能穩定性。

技術領域

本發明實施例涉及光學系統技術領域，尤其涉及一種物鏡裝置。

背景技術

光刻工藝直接決定大規模集成電路的特征尺寸，是大規模集成電路制造的關鍵工藝。現有光刻裝置以光學光刻為基礎，利用投影系統(包括物鏡裝置，投影光線由物鏡裝置出射)將圖案形成單元上的圖形精確地投影曝光到涂覆有光刻膠的基底(例如，硅片)上。

傳統的物鏡裝置中，投影物鏡的鏡頭與光刻膠之間的介質是空氣，為了增大投影物鏡中光學元件設置位置的靈活性以及提高曝光指標(示例性的，該曝光指標可為特征尺寸)，可在投影物鏡中穿插波前補償器，該波前補償器處形成開放的環境，環境壓力穩定性較差，導致物鏡裝置的性能波動較大。

發明內容

本發明提供一種物鏡裝置，以提高開放環境中的壓力穩定性，從而穩定物鏡裝置的性能。

本發明實施例提出一種物鏡裝置，該物鏡裝置包括：光線傳播單元、氣體供給單元和控制單元；

其中，所述光線傳播單元包括沿光線傳播方向依次排列的第一鏡組、波前補償器和第二鏡組，光線由所述第二鏡組出射；

所述第一鏡組和/或所述第二鏡組中設置有第一壓力感應單元，所述波前補償器內設置有第二壓力感應單元，所述第一壓力感應單元與所述第二壓力感應單元分別與所述控制單元連接；

所述氣體供給單元用于輸出具有預設壓力穩定度與預設純度的氣體，并供給至所述波前補償器；

所述控制單元用于根據所述第一壓力感應單元探測到的第一壓力值與所述第二壓力感應單元探測到的第二壓力值調節所述氣體供給單元的氣體輸出量，以使所述第一壓力值與所述第二壓力值的差值在預設壓差閾值范圍內。

進一步地，所述氣體供給單元包括順次連接的第一調壓子單元、第二調壓子單元和氣體回收子單元；

所述第一調壓子單元用于過濾氣體，并將具有初始預設壓力的氣體輸出至第二調壓子單元；

所述第二調壓子單元用于在所述初始預設壓力范圍內穩定氣體的壓力，使氣體的壓力穩定在所述預設壓力穩定度的范圍內，并將具有預設壓力穩定度和預設純度的氣體供給至所述波前補償器；

所述氣體回收子單元用于將流經所述波前補償器的氣體回收。

進一步地，所述第一調壓子單元包括質量流量控制器和純化器；

所述質量流量控制器用于控制由所述第一調壓子單元輸出的氣體的流量；

所述純化器用于過濾氣體。

進一步地，所述純化器設置于所述質量流量控制器與所述第二調壓子單元之間。

進一步地，所述第一調壓子單元還包括調壓閥；

所述調壓閥連接于所述質量流量控制器遠離所述第二調壓子單元的一端。

進一步地，所述第二調壓子單元包括進氣口、分流塊主體、毛細管、分氣口以及測量口；