[發(fā)明專利]一種可降解光學(xué)保護膜及其制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910150416.4
• 申請日: 2019-02-28
• 公開（公告）號: CN109912938A
• 公開（公告）日: 2019-06-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳林杰
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市新華安包裝制品有限公司
• 主分類號: C08L67/00
• 分類號: C08L67/00;C08L23/02;C08L53/02;C08K13/02;C08K5/523;C08K5/3492;C08K5/03;C08J5/18
• 代理公司: 北京華仲龍騰專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11548
• 代理人: 李靜

本發(fā)明公開了一種可降解光學(xué)保護膜及其制備方法，該保護膜按以下組分重量百分比制備而成：聚酯熱塑性彈性體30?60份；聚烯烴20?50份；阻燃劑6?20份；苯乙烯－丁二烯－苯乙烯三嵌段共聚物3?8份；抗氧劑0.4?1份；抗滴落劑0.2?0.5份，潤滑劑0.2?0.5份，本發(fā)明的PPE保護膜具有密度低的特性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及高分子材料技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種可降解光學(xué)保護膜及其制 備方法。

背景技術(shù)

保護膜在功能上講是要對我們所要保護的實體物品外放一層膜。現(xiàn)在世 面上已有AR防反光膜、AG磨砂抗反射膜、手機鏡子膜、防窺膜，高清防刮膜 等功能型保護膜，然而現(xiàn)有的可降解光學(xué)保護膜的密度較大，且保護膜的力 學(xué)性能較差，不便于生產(chǎn)生活。

所以，提供一種能夠解決新PPE保護膜的密度較大問題的可降解光學(xué)保 護膜及其制備方法成為我們要解決的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種可降解光學(xué)保護膜及其制備方法，以解決上 述背景技術(shù)中提出PPE保護膜的密度較大問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種可降解光學(xué)保護膜，該保護膜按以下組分重量百分比制備而成：

作為優(yōu)選，所述聚酯熱塑性彈性體的粘度30-60cm³/g,分子量為 22000-57000。

作為優(yōu)選，所述阻燃劑為磷酸三苯酯、雙酚A一雙(二苯基磷酸酯)、溴 代三嗪、十溴二苯乙烷中的至少一種。

作為優(yōu)選，所述苯乙烯－丁二烯－苯乙烯三嵌段共聚物的結(jié)構(gòu)式中分子 鏈中段是聚丁二烯，兩端是聚苯乙烯，其中聚丁二烯和聚苯乙烯的質(zhì)量比為 30：70，苯乙烯－丁二烯－苯乙烯三嵌段共聚物制備方法是以苯乙烯和丁二 烯為原料采用偶聯(lián)法和單鋰引發(fā)劑的兩步混合加料法通過鏈引發(fā)、鏈增長和 鏈終止制備共聚物。

作為優(yōu)選，所述抗氧劑為四[β-(3,5-二叔丁基4-羥基苯基)丙酸]季戊四 醇酯和三(2,4-二叔丁基苯基)亞磷酸酯按重量百分比為1:1制備而成。

作為優(yōu)選，所述潤滑劑為硅烷聚合物、石蠟、脂肪酸鹽、硬脂酸鹽、聚 四氟乙烯中的至少一種。

一種可降解光學(xué)保護膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)將聚酯熱塑性彈性體、聚烯烴、阻燃劑、苯乙烯－丁二烯－苯乙烯 三嵌段共聚物、抗氧劑、潤滑劑混合均勻后得到混合物；

(2)將得到的混合物投入雙螺桿擠出機中進行熔融擠出、造粒，得到保 護膜。

作為優(yōu)選，所述雙螺桿擠出機的機筒溫度為200-260℃，螺桿轉(zhuǎn)速為 300-500rpm，過水距離為1-2m。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：保護膜的阻燃性能、剛性、耐 熱性能提升明顯，光澤差別較大，耐熱性能好、低密度、高光澤的良好特點； PPE保護膜的密度低。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清 楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例， 而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員 在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā) 明保護的范圍。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“上”、“下”、“前”、 “后”、“左”、“右”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置 關(guān)系為基于所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化 描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以 特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。