[發(fā)明專利]一種顯示裝置及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910146727.3
• 申請日: 2019-02-27
• 公開（公告）號: CN109904343B
• 公開（公告）日: 2021-10-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李春紅;李俊峰;王明暉;敖偉;王巖
• 申請（專利權(quán)）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;G09G3/3208
• 代理公司: 北京布瑞知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11505
• 代理人: 孟潭

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中顯示裝置在封裝過程中，因?yàn)榛搴万?qū)動芯片邦定位置周圍裸露金屬較多而造成擊穿的問題；本發(fā)明的實(shí)施例所提供的一種顯示裝置，通過在非顯示模組上設(shè)置金屬線圖案以及覆蓋在金屬線圖案上的阻隔層，其中阻隔層包括鏤空圖案，其中鏤空圖案覆蓋金屬線圖案，將覆蓋封裝位置周圍以及封裝位置金屬層的阻隔層設(shè)計(jì)為包括多個(gè)鏤空部分和多個(gè)阻隔部分的圖案化結(jié)構(gòu)，能夠減小金屬層的裸露面積，降低封裝過程中的擊穿概率，從而降低顯示裝置中顯示器件的損傷概率，進(jìn)而提高顯示裝置的安全性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種顯示裝置及其制備方法。

背景技術(shù)

在顯示裝置封裝的過程中，封裝有機(jī)膜層常常是打印制備而成，其中在打印過程中有機(jī)膜層中的液體會溢流，流向基板和驅(qū)動芯片邦定的位置，因此為了防止液體溢流，需要在非顯示區(qū)中的部分阻隔層膜層去掉，從而形成內(nèi)外DAM，這樣可以阻擋液體流向邦定位置，但是因?yàn)槿サ舨糠肿韪裟樱诎疃ㄎ恢弥車姆秋@示區(qū)域的金屬層就會有較大面積的裸露，當(dāng)使用CVD對顯示裝置進(jìn)行封裝時(shí)，由于裸露的金屬面積較大，容易發(fā)生擊穿現(xiàn)象，進(jìn)而造成顯示裝置中的顯示器件損傷。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中顯示裝置在封裝過程中，因?yàn)榛搴万?qū)動芯片邦定位置周圍裸露金屬較多而造成擊穿的問題。

本發(fā)明一實(shí)施例提供的一種顯示裝置，包括：

設(shè)置在同一基板表面的顯示模組和非顯示模組，其中，所述非顯示模組包括設(shè)置在所述基板表面的金屬線圖案；以及，

設(shè)置在所述金屬線圖案上的包括鏤空圖案的阻隔層，其中，所述鏤空圖案覆蓋所述金屬線圖案。

優(yōu)選的，所述鏤空圖案包括至少一個(gè)鏤空圖案單元，所述金屬線圖案包括至少一個(gè)金屬線圖案單元，所述至少一個(gè)鏤空圖案單元分別對應(yīng)覆蓋所述至少一個(gè)金屬線圖案單元。

進(jìn)一步的，其中所述鏤空圖案單元包括多個(gè)鏤空部分和多個(gè)阻隔部分，其中，所述多個(gè)鏤空部分的排布方式包括如下排布方式中的有一種或多種：沿預(yù)設(shè)方向排列、陣列排布以及交叉分布。

優(yōu)選的，所述多個(gè)鏤空部分的形狀包括以下形狀中的一種或多種長條形、曲線形、折線形、圓形、橢圓形和多邊形。

優(yōu)選的，所述鏤空圖案單元包括多個(gè)鏤空部分和多個(gè)阻隔部分，其中，所述多個(gè)阻隔部分的排布方式包括如下排布方式中的有一種或多種：沿預(yù)設(shè)方向排列、陣列排布以及交叉分布。

優(yōu)選的，所述多個(gè)阻隔部分的形狀包括以下形狀中的一種或多種長條形、曲線形、折線形、圓形、橢圓形和多邊形。

進(jìn)一步的，所述顯示模組包括疊加設(shè)置的驅(qū)動電路層和有機(jī)發(fā)光層，其中，所述阻隔層設(shè)置在所述驅(qū)動電路層與所述有機(jī)發(fā)光層之間。

進(jìn)一步的，所述顯示裝置進(jìn)一步包括封裝層，所述封裝層的邊界設(shè)置在所述阻隔層上。

作為本發(fā)明的另一面，本發(fā)明一實(shí)施例還提供了一種顯示裝置的制備方法，其特征在于，包括：

提供一基板，在所述基板上制備顯示模組和非顯示模組；

在所述非顯示模組內(nèi)的所述基板表面制備金屬線圖案；

在所述金屬線圖案上制備包括鏤空圖案的阻隔層，其中，所述鏤空圖案覆蓋所述金屬線圖案。

進(jìn)一步的，所述在所述金屬線圖案上制備包括鏤空圖案的阻隔層包括：

在所述金屬線圖案上制備阻隔層，其中所述阻隔層覆蓋所述金屬線圖案；

通過曝光或顯影的方式在所述金屬線圖案正上方的阻隔層上形成鏤空圖案。