[發(fā)明專利]一種大規(guī)模拼接焦平面探測器平面度測量裝置與測量方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910144000.1 | 申請日: | 2019-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN109708593A | 公開(公告)日: | 2019-05-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 孫勝利;于清華;陳凡勝;林長青;林加木 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學院上海技術(shù)物理研究所 |
| 主分類號: | G01B11/30 | 分類號: | G01B11/30 |
| 代理公司: | 上海滬慧律師事務(wù)所 31311 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 200083 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 探測器 焦平面 拼接 光源組件 平面度測量裝置 焦平面探測器 調(diào)整系統(tǒng) 精度位置 視場位置 位置坐標 光源 會聚 測量 位置調(diào)整系統(tǒng) 信號實時監(jiān)測 測量裝置 測試過程 精細調(diào)整 平面擬合 響應(yīng)信號 高精密 光敏面 平面度 全視場 遍歷 記錄 覆蓋 | ||
1.一種大規(guī)模拼接焦平面探測器平面度測量裝置,包括小F數(shù)點光源會聚光源組件和高精密位置調(diào)整系統(tǒng),其特征在于:
所述的大規(guī)模拼接焦平面探測器平面度測量裝置中光源組件的工作譜段覆蓋預(yù)定檢測的焦平面探測器響應(yīng)譜段;光源組件的后工作距滿足大規(guī)模拼接焦平面探測器平面度測量需求;高精密位置調(diào)整系統(tǒng)與小F數(shù)點光源會聚光源組件剛性固定鏈接,且高精度位置調(diào)整系統(tǒng)的位置測量精度滿足滿足大規(guī)模拼接焦平面探測器平面度測量需求。
2.一種基于權(quán)利要求1所述的大規(guī)模拼接焦平面探測器平面度測量裝置的測量方法,其特征在于方法如下:
測量前,大規(guī)模拼接焦平面探測器與大規(guī)模拼接焦平面探測器平面度測量裝置對接,且使小F數(shù)點光源會聚光源組件焦點達到大規(guī)模拼接焦平面探測器感光面位置;
測試過程中,固定大規(guī)模拼接探測器不動,開啟大規(guī)模拼接探測器并進行信號實時監(jiān)測,調(diào)整光源組件位置,使光源會聚于探測器焦平面的預(yù)定的視場位置,并精細調(diào)整位置將其在探測器上的響應(yīng)信號達到最大,記錄此時高精度位置調(diào)整系統(tǒng)的位置坐標,之后調(diào)整至探測器焦平面下一個視場位置點如是操作與記錄,直至光源組件位置遍歷覆蓋探測器焦平面全視場范圍,之后對高精度位置調(diào)整系統(tǒng)的位置坐標進行平面擬合處理,進而得到探測器焦平面的光敏面平面度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學院上海技術(shù)物理研究所,未經(jīng)中國科學院上海技術(shù)物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910144000.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種板材自動檢測分等裝置
- 下一篇:一種檢測觸摸屏撓度的方法及裝置





