[發明專利]一種耐溫型復合清潔壓裂液及其制備方法

有效

• 申請號: 201910136287.3
• 申請日: 2019-02-25
• 公開（公告）號: CN109609113B
• 公開（公告）日: 2021-04-27
• 發明（設計）人: 趙明偉;戴彩麗;張躍;吳一寧;李玉陽;吳雪鵬
• 申請（專利權）人: 中國石油大學（華東）
• 主分類號: C09K8/68
• 分類號: C09K8/68;C09K8/66;C09K8/584;C09K8/86
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

1.一種耐溫型復合清潔壓裂液，其特征在于，所述的耐溫型復合清潔壓裂液，其組分及質量百分比含量如下：

表面活性劑1-2%；反離子助劑1-2%；納米顆粒1-2%；余量為水；

所述表面活性劑為山崳酸酰胺丙基二甲胺、硬脂酸酰胺丙基二甲胺、軟脂酸酰胺丙基二甲胺或芥酸酰胺丙基二甲胺中的一種；

所述納米顆粒為改性納米顆粒；所述改性納米顆粒是一種利用酸酐類有機物進行表面改性的親水型納米二氧化硅顆粒；其制備方法包括以下步驟：

A、將普通親水型納米二氧化硅利用超聲波清洗器分散于有機溶劑中，之后加入酸酐類有機物，室溫下磁力攪拌15小時，轉速為600-700rpm，即得酸酐改性納米顆粒反應液；

B、將步驟A獲得的酸酐改性納米顆粒反應液放入高速離心機進行高速離心，轉速為9000 rpm，離心時間30分鐘，收集離心產物，用乙醇洗滌3次以除去未反應完全的酸酐類有機物，乙醇洗滌完成后，進行真空干燥，除去剩余有機溶劑及乙醇，并對干燥完成后的固體進行研磨處理，即可得到酸酐改性納米二氧化硅顆粒；

所述反離子助劑為水楊酸鈉、硝酸鈉、馬來酸鈉、十二烷基硫酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉或對甲苯磺酸鈉中的一種。

2.根據權利要求1所述的耐溫型復合清潔壓裂液，其特征在于：所述酸酐類有機物為丁二酸酐、戊二酸酐、馬來酸酐、苯偏三甲酸酐或鄰苯二甲酸酐中的一種。

3.根據權利要求1所述的耐溫型復合清潔壓裂液，其特征在于：步驟A中，所述有機溶劑為甲苯、環己烷或N,N-二甲基酰胺中的任意一種。

4.根據權利要求1所述的耐溫型復合清潔壓裂液，其特征在于：步驟A中，酸酐類有機物與普通親水型納米二氧化硅顆粒的質量比為3-4:3。

5.權利要求1-4任一項所述的耐溫型復合清潔壓裂液的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）將納米顆粒加入水中，轉速為500-600轉/分鐘條件下機械攪拌30分鐘至溶液均勻，之后將溶液放入超聲波清洗器中在50℃下超聲分散3小時，直至溶液澄清透明，得到納米流體；

（2）以步驟（1）制備的納米流體為基液，依次加入表面活性劑和反離子助劑，混合均勻后，放入50℃水浴鍋中穩定靜置2-2.5小時，得到所述的耐溫型復合清潔壓裂液。