[發明專利]對于測量光刻掩模確定成像光學單元的成像像差貢獻的方法

有效

• 申請號: 201910135916.0
• 申請日: 2019-02-21
• 公開（公告）號: CN110174822B
• 公開（公告）日: 2022-04-05
• 發明（設計）人: M.科赫;D.黑爾韋格;R.卡佩利;M.迪茨爾
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01M11/02
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

對于測量光刻掩模確定成像光學單元的成像像差貢獻包含：首先焦點相關地測量成像光學單元的3D空間像，按照通過成像光學單元對物體成像的像面的區域中以及與該像面平行的不同測量平面中的2D強度分布的序列。然后由具有散斑圖案的測量的2D強度分布的傅里葉變換來確定3D空間像的散斑圖案的頻譜。對于頻域中的多個頻譜分量，然后確定所述頻譜分量的實部RS(z)和虛部IS(z)的焦點相關性。從實部RS(z)和虛部IS(z)的焦點相關性的確定值，由掩模結構對散斑圖案頻譜做出的貢獻(該貢獻將被消除)然后從由成像光學單元對散斑圖案頻譜做出的成像像差貢獻分離出。然后表示成像像差貢獻。

相關申請的交叉引用

本專利申請要求德國專利申請DE 10 2018 202 635.1的優先權，其內容通過引用并入本文。

技術領域

本發明涉及對于測量光刻掩模確定成像光學單元的成像像差貢獻的方法。此外，本發明涉及對于測量光刻掩模校正度量系統的成像光學單元的成像像差的方法，其包含該類型的確定方法，并且涉及利用其可以執行該類型方法的度量系統。

背景技術

WO 2016/012426A1公開了三維測量光刻掩模的3D空間像的方法。

從以下獲悉借助于散斑測量確定在光學單元中的成像像差貢獻的方法：于2016年在美國的《成像和應用光學會議》中的Shanker等人的技術文獻使用自然散斑的EUV顯微鏡中離軸像差估計(Off-axis Aberration Estimation in an EUV MicroscopeUsingNatural Speckle)”，于2015年2月10日發表的《光學快報》的23卷20號上R.A.Claus等人的技術文獻用任意光瞳和照明的定量相位恢復(Quantitative phase retrieval witharbitrary pupil and illumination)”，以及proc.ofSPIE的9422卷，942214上，由O.R.WoodII等人編輯的《極紫外(EUV)光刻術VI》中R.A.Claus的技術文獻“使用EUV掩模粗糙度的像差估計(Aberration estimation using EUV mask roughness)”。

發明內容

本發明的目的是對于測量光刻掩模來確定成像光學單元的成像像差貢獻，其具有與在相應的光刻掩模上的測量時間相比較盡可能小的附加時間支出。

根據本發明通過包括以下步驟的方法實現該目的。一種對于測量光刻掩模確定成像光學單元的成像像差貢獻的方法，所述方法包括以下步驟：

a)焦點相關地測量所述成像光學單元的3D空間像，按照通過所述成像光學單元對物體成像的像面的區域中以及與所述像面平行的不同測量平面中的2D強度分布的序列；

b)由具有散斑圖案的所測量的2D強度分布的傅里葉變換來確定所述3D空間像的散斑圖案的頻譜；

c)對于頻域中的多個頻譜分量，確定所述頻譜分量的實部和虛部的焦點相關性；

d)從所述焦點相關性的確定值，分離以下：

aa)由掩模結構對所述散斑圖案頻譜做出的貢獻，其貢獻將被消除，

bb)由所述成像光學單元對所述散斑圖案頻譜做出的成像像差貢獻；

e)表示所述成像像差貢獻。

根據本發明已經認識到，可以通過散斑圖案測量，在光刻掩模測量期間無論如何經常執行的3D空間像測量的上下文中，從對散斑圖案的掩模結構貢獻分離出成像像差貢獻。然后可以表示成像像差貢獻，結果由此可以執行成像光學單元的資格認證，并且特別地可以得出關于以下的結論：例如通過再調整度量系統的成像光學單元可以降低所述成像像差貢獻的程度。通過確定相應頻譜分量的實部和虛部的焦點相關性的輪廓的相交點的z位置可以執行分離。該方法可以用于確定特別是可以通過偶函數來描述的像差。