[發(fā)明專利]一種標(biāo)刻方法及有機(jī)玻璃

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910135618.1
• 申請日: 2019-02-22
• 公開（公告）號: CN109693043B
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱良琴
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市杰普特光電股份有限公司
• 主分類號: B41J2/435
• 分類號: B41J2/435;B23K26/362;B23K26/70;B08B3/12;C03C17/00;B23K103/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371
• 代理人: 付興奇

1.一種標(biāo)刻方法，其特征在于，包括：

提供一待標(biāo)刻基板；

在所述待標(biāo)刻基板表面的特定位置涂覆標(biāo)刻材料；

對所述待標(biāo)刻基板的特定位置進(jìn)行激光打標(biāo)，在所述待標(biāo)刻基板表面生成與所述待標(biāo)刻基板顏色不同的標(biāo)記；

其中，所述標(biāo)刻材料的成分包括：激光標(biāo)記油墨和與所述待標(biāo)刻基板材質(zhì)相同的粉末；與所述待標(biāo)刻基板材質(zhì)相同的粉末的顆粒程度小于700目；

其中，所述在所述待標(biāo)刻基板表面的特定位置涂覆標(biāo)刻材料，包括：

通過噴嘴直徑為0.2毫米的噴槍在氣壓為0.7兆帕的條件下在所述待標(biāo)刻基板表面的特定位置涂覆標(biāo)刻材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的標(biāo)刻方法，其特征在于，所述對所述待標(biāo)刻基板的特定位置進(jìn)行激光打標(biāo)，在所述待標(biāo)刻基板表面生成與所述待標(biāo)刻基板顏色不同的標(biāo)記，包括：

采用紅外光纖激光器對所述待標(biāo)刻基板的特定位置進(jìn)行照射，在所述待標(biāo)刻基板表面生成與所述待標(biāo)刻基板顏色不同的標(biāo)記。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的標(biāo)刻方法，其特征在于，所述對所述待標(biāo)刻基板的特定位置進(jìn)行激光打標(biāo)，在所述待標(biāo)刻基板表面生成與所述待標(biāo)刻基板顏色不同的標(biāo)記，包括：

采用二氧化碳激光器對所述待標(biāo)刻基板的特定位置進(jìn)行照射，在所述待標(biāo)刻基板表面生成與所述待標(biāo)刻基板顏色不同的標(biāo)記。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的標(biāo)刻方法，其特征在于，在對所述待標(biāo)刻基板的特定位置進(jìn)行激光打標(biāo)，在所述待標(biāo)刻基板表面生成與所述待標(biāo)刻基板顏色不同的標(biāo)記之后，所述方法還包括：

對所述待標(biāo)刻基板進(jìn)行清洗。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的標(biāo)刻方法，其特征在于，所述對所述待標(biāo)刻基板進(jìn)行清洗，包括：

將所述待標(biāo)刻基板放入超聲波清洗機(jī)中；

在所述超聲波清洗機(jī)中對所述待標(biāo)刻基板進(jìn)行清洗。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的標(biāo)刻方法，其特征在于，所述對所述待標(biāo)刻基板進(jìn)行清洗，包括：

將所述待標(biāo)刻基板放入清水池中；

在所述清水池中對所述待標(biāo)刻基板進(jìn)行清洗。

7.一種有機(jī)玻璃，其特征在于，包括：本體和位于所述本體表面上的通過如權(quán)利要求1-6中任一項所述的標(biāo)刻方法獲得的標(biāo)記。