[發明專利]一種基于磁納米粒子的IGBT結溫測量方法有效
| 申請號: | 201910127850.0 | 申請日: | 2019-02-20 |
| 公開(公告)號: | CN109946578B | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發明(設計)人: | 劉文中;凌子文;杜中州;皮仕強 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | G01R31/26 | 分類號: | G01R31/26;G01K11/32 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心 42201 | 代理人: | 李智;曹葆青 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 納米 粒子 igbt 測量方法 | ||
本發明公開了一種基于磁納米粒子的IGBT結溫測量方法,包括:將磁納米粒子布置在IGBT芯片外殼背部的中心區域,構建IGBT結、IGBT芯片外殼與工作環境的二階傳熱模型;構建均勻的交流激勵磁場,將帶有磁納米粒子的IGBT芯片放置于所述磁場后,提取磁納米粒子響應信號的一次諧波幅值;根據一次諧波幅值,計算IGBT芯片外殼背部溫度;根據IGBT芯片外殼背部溫度、工作環境溫度和二階傳熱模型,計算IGBT結溫。本發明使磁納米粒子接近IGBT結處,提高IGBT結溫測量的精度;利用磁納米粒子磁化強度的溫度敏感特性,測量磁納米粒子交流磁化強度的一次諧波幅值,得到外殼背部溫度,無需破壞IGBT芯片的現有封裝,實現非侵入式溫度測量;通過二階熱容熱阻傳熱模型,實現IGBT結溫的實時測量。
技術領域
本發明屬于納米測試技術領域,更具體地,涉及一種基于磁納米粒子的IGBT結溫測量方法。
背景技術
自上世紀80年代初研發成功后,IGBT的制造工藝一直在改進。IGBT器件集合了MOSFET與BJT的優點,并以高開關速度與低開關損耗被視為理想開關,廣泛應用于逆變器等領域。然而IGBT在較為嚴苛的外部應力下容易失效,從而導致經濟損失與社會影響。眾多半導體廠家以及文獻總結出了IGBT的壽命預測模型,主要表現為工作的壽命與芯片溫升的關系曲線,體現出IGBT結溫測量的重要性。
現有技術中,IGBT結溫的測量方法大致分為:接觸測量法、非接觸測量法、溫度敏感參數法以及熱網絡法。接觸式測量方法包括熱敏電阻等,但由于需要改變封裝從而破壞溫度場等原因,測量的結果會導致較大誤差;非接觸式測量法主要包括光纖溫度計、紅外攝像等,存在需要對封裝進行破壞并且整套設備造價昂貴的缺點;溫度敏感參數法利用的是IGBT元件的飽和壓降等熱敏參數,通過擬合熱敏參數與溫度的關系曲線,從而測量熱敏參數值得到溫度信息,但由于存在適用的局限性,并不適合實時的溫度測量;熱網絡法通過提出IGBT的傳熱模型、結合模型參數與測量點的溫度,計算得到待測點的溫度信息,但由于IGBT應用電路除了IGBT芯片之外,還有其他大功率器件,并且多個器件存在熱耦合,模型建立以及參數計算較為復雜,且會隨著器件的老化使得溫度測量產生較大誤差。
磁納米粒子是一種納米尺度的四氧化三鐵顆粒,具有良好的溫度敏感特性,可以實現非侵入式溫度測量。2009年,J.B.Weaver等人利用MNP(磁納米粒子)磁化曲線的非線性特性,通過交流磁化強度的三次諧波和五次諧波幅值比值,實現了溫度測量,其測量精度約為0.3K。2012年,J.Zhong等人基于郎之萬順磁定理,建立了直流激勵下,磁化率與溫度之間的數學模型,并在模型中引入布洛赫定律后,溫度測量誤差的標準差達到了0.017K。但由于直流激勵下的溫度測量存在測量速度慢的缺點,無法應用到實時性要求較高的場合,J.Zhong等人提出交直流激勵下的磁化率數學模型,將溫度測量的時間分辨率提高到1s,且溫度測量精度為0.3K。
發明內容
為了解決上述問題,本發明提供了一種基于磁納米粒子的IGBT結溫測量方法,利用磁納米粒子測量芯片外殼背部溫度,結合二階傳熱模型及模型參數,實現IGBT結溫實時測量。
為實現上述目的,第一方面,本發明實施例提供了一種基于磁納米粒子的IGBT結溫測量方法,所述方法包括如下步驟:
S1.將磁納米粒子布置在IGBT芯片外殼背部的中心區域,構建IGBT結、IGBT芯片外殼與工作環境的二階傳熱模型;
S2.構建均勻的交流激勵磁場,將帶有磁納米粒子的IGBT芯片放置于所述磁場后,提取磁納米粒子響應信號的一次諧波幅值;
S3.根據提取到的一次諧波幅值,計算IGBT芯片外殼背部溫度;
S4.根據計算得到的IGBT芯片外殼背部溫度、工作環境溫度和二階傳熱模型,計算IGBT結溫。
具體地,所述磁納米粒子的粒徑為5~30nm。
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