[發明專利]一種氣相沉積設備的托盤

在審

• 申請號: 201910126320.4
• 申請日: 2019-02-20
• 公開（公告）號: CN109809684A
• 公開（公告）日: 2019-05-28
• 發明（設計）人: 顧勇;張舞杰;謝長貴;鄧錦飛
• 申請（專利權）人: 無錫市凱靈電子有限公司
• 主分類號: C03B37/018
• 分類號: C03B37/018
• 代理公司: 廣州恒華智信知識產權代理事務所(普通合伙) 44299
• 代理人: 姜宗華

一種氣相沉積設備的托盤，包括：保護殼、支撐移動器和托桿，所述支撐移動器位于所述保護殼的內部，所述托桿設置在所述支撐移動器上，并且從所述保護殼的內部延伸至外部。上述托盤不僅可以在靶棒升降過程中保證其平穩性，而且在靶棒旋轉過程中也可以保證其平穩性，從而進一步光纖預制棒的材料均勻性。

技術領域

本發明涉及光纖預制棒制造領域，尤其是涉及一種氣相沉積設備的托盤。

背景技術

光纖預制棒是具有特定折射率剖面并用于制造光導纖維(簡稱光纖)的石英玻璃棒。預制棒一般直徑為幾毫米至幾十毫米(俗稱光棒)。光纖的內部結構就是在預制棒中形成的。因為預制棒的制作是光纖工藝中最重要的部分，所以從20世紀70年代末期開始規模生產光纖以來，對光纖預制棒制造技術的研究和完善改進就從來沒有間斷過。

在光纖預制棒的制造過程中，其外包層常常采用OVD法制備，OVD法具有效率高、靈活性強、經濟效益好等優點。如：中國專利CN107188404公開的一種使用有機硅制備高質量光纖預制棒的方法，該方法通過控制噴燈和芯棒的相對移動速度、噴燈與芯棒的相對旋轉速度、燃氣與氧氣的比例、有機硅載氣比例和箱體內風速，最終優化OVD沉積第一層的反應溫度，從而使得芯棒上第一層SiO2沉積物的粒徑大小介于20nm～200nm、且粒徑分布均勻，獲得燒結后光棒界面質量好的光纖預制棒。

為了克服傳統光纖預制棒OVD沉積制備裝置沉積效率和速率不高的問題，中國專利CN204644158公開了一種多噴燈的疏松體光纖預制棒OVD沉積制備裝置，該制備裝置通過多噴燈來提高疏松體光纖預制棒制備沉積速率和效率高，并能使疏松體光纖預制棒的直徑的均勻性好，能保證產品內部晶格結構的單一性。

然而，上述制備裝置只能對靶棒進行靜態沉積，噴出的氣體集中在與噴燈正對的位置，限制了均勻性的進一步改善，雖然可以將其支架設置成可移動式的，但是在移動過程中單單靠移動機構很難保證靶棒的平穩，故仍可能出現沉積不均勻的情況。

發明內容

本發明技術方案是針對上述情況的，為了解決上述問題而提供一種氣相沉積設備的托盤，所述托盤包括：保護殼、支撐移動器和托桿，所述支撐移動器位于所述保護殼的內部，所述托桿設置在所述支撐移動器上，并且從所述保護殼的內部延伸至外部。

進一步，所述支撐移動器包括：支撐電機、減速機、支撐絲杠、支撐軌道、滑板螺母，所述支撐電機通過減速機與所述支撐絲杠形成轉動連接，所述滑板螺母位于所述支撐軌道上并且與所述支撐絲杠形成嚙合，所述滑板螺母與所述托桿形成固定。

進一步，所述支撐移動器還包括：支撐拖鏈，所述支撐拖鏈的一端與所述支撐軌道形成固定，另一端與所述滑板螺母形成固定。

進一步，所述支撐移動器還包括：兩個支撐行程開關和支撐傳感器，一個支撐行程開關位于所述支撐軌道的上端，另一個支撐行程開關位于所述支撐軌道的下端，所述支撐傳感器位于兩個支撐行程開關之間。

進一步，所述托桿包括：桿套、支撐柱、軸承座、連接桿和承托部件，所述支撐柱位于所述桿套內部，所述軸承座位于所述支撐柱上端，所述連接桿穿過所述軸承座，所述承托部件位于所述連接桿上端，所述連接桿從所述保護殼的內部延伸至外部。

進一步，所述承托部件呈漏斗形狀。

采用上述技術方案后，本發明的效果是：具有上述結構的托盤，不僅可以在靶棒升降過程中保證其平穩性，而且在靶棒旋轉過程中也可以保證其平穩性，從而進一步光纖預制棒的材料均勻性。

附圖說明

圖1為本發明涉及的氣相沉積設備的示意圖；

圖2為本發明涉及的氣相沉積設備的局部視圖；

圖3為本發明涉及的機架的示意圖；

圖4為本發明涉及的機架的另一示意圖；