[發明專利]一種上分散型真空均質乳化機在審
| 申請號: | 201910115430.0 | 申請日: | 2019-02-15 |
| 公開(公告)號: | CN109675454A | 公開(公告)日: | 2019-04-26 |
| 發明(設計)人: | 王春林 | 申請(專利權)人: | 王春林 |
| 主分類號: | B01F3/08 | 分類號: | B01F3/08;B01F7/18;B01F7/26;B01F13/06;B01F15/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 225000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 中心攪拌 攪拌裝置 密封罐體 刮壁 真空均質乳化機 出料口 分散型 阻流板 乳化 電機 隔熱保溫層 電機固定 對稱設置 加熱介質 間距相等 剪切均勻 傾斜設置 由上向下 均質機 連接板 細膩度 中軸線 外圍 | ||
本發明公開了乳化領域的一種上分散型真空均質乳化機,包括密封罐體;還包括設置在密封罐體中軸線上的中心攪拌電機;還包括對稱設置在中心攪拌電機兩側的副攪拌裝置;所述密封罐體包括加熱介質層,還包括設置在外圍的隔熱保溫層;所述密封罐體底部設置有出料口,所述出料口處連接有均質機;所述中心攪拌電機固定連接有中心攪拌漿,所述中心攪拌槳由上向下設置有間距相等的三個阻流板,所述中心攪拌槳末端通過連接板與刮壁攪拌裝置連接,所述刮壁攪拌裝置內側設置有四個阻流板;所述副攪拌裝置傾斜設置在中心攪拌槳與刮壁攪拌裝置之間。本發明結構新穎,乳化、剪切均勻,細膩度高。
技術領域
本發明涉及乳化裝置領域,特別涉及一種上分散型真空均質乳化機。
背景技術
真空均質乳化機是集混合、分散、均質、乳化和吸粉多功能于一體的成套系統,帶有電控系統,也可配合外圍油、水相罐、真空、加熱、冷卻系統等使用,是生產藥用乳膏、高檔膏霜、乳液等的專用設備。均質乳化機的原理是物料在水鍋、油鍋內通過加熱、攪拌進行混合反應后,由真空泵吸入乳化鍋,通過乳化鍋內上部的中心攪拌、聚四氟乙烯刮板始終迎合攪拌鍋形體,掃凈掛壁粘料,使被刮取的物料不斷產生新界面,再經過葉片與回轉葉片的剪斷、壓縮、折疊,使其攪拌、混合而向下流往鍋體下方的均質器內,物料在通過告訴旋轉的切割輪與固定的切割套之間所產生的強力的剪斷、沖擊、亂流等過程,物料在剪切縫中被切割,迅速破碎成200nm-2um的微粒,由于乳化鍋處于真空狀態,物料在攪拌過程中產生的氣泡及時被抽走。
現有的阻流工藝是采用板材直接焊接在容器上面,攪拌是會產生泡狀,容器里面的物料達不到充分剪切,不能保證產品的細膩度,改用上分散后,徹底解決了這個難題,特別適用粘度較高的物料,工作時通過上面高速(單層或多層)分散帶來的動能,結合中心的刮壁攪拌,使物料在離心狀態下均勻的剪切、乳化,保證了產品的細膩度。
發明內容
本發明的目的是提供剪切乳化均勻、細膩度高的一種上分散型真空均質乳化機。
本發明的目的是這樣實現的:一種上分散型真空均質乳化機,包括密封罐體;還包括設置在密封罐體中軸線上的中心攪拌電機;還包括對稱設置在中心攪拌電機兩側的副攪拌裝置;
所述密封罐體包括加熱介質層,還包括設置在外圍的隔熱保溫層;所述密封罐體底部設置有出料口,所述出料口處連接有均質機;
所述中心攪拌電機固定連接有中心攪拌漿,所述中心攪拌槳由上向下設置有間距相等的三個阻流板,所述中心攪拌槳末端通過連接板與刮壁攪拌裝置連接,所述刮壁攪拌裝置內側設置有四個阻流板;
所述副攪拌裝置傾斜設置在中心攪拌槳與刮壁攪拌裝置之間,所述副攪拌裝置包括攪拌電機,還包括分散軸;所述分散軸與攪拌電機連接處設置有空心圓柱固定座,所述分散軸、空心圓柱固定座通過連接法蘭與攪拌電機連接;所述空心圓柱固定座穿過密封罐體并通過密封墊密封,所述空心圓柱固定座下端與分散軸之間設置有軸承并通過端蓋固定;所述分散軸上設置有上分散盤與下分散盤。
與現有技術相比,本發明的有益之處在于:由于現有的阻流工藝是采用板材直接焊接在容器上面,攪拌是會產生泡狀,容器里面的物料達不到充分剪切,不能保證產品的細膩度;采用上分散攪拌后,徹底解決了這個難題,特別適用粘度較高的物料,工作時通過上面高速(單層或多層)分散帶來的動能,結合中心的刮壁攪拌,使物料在離心狀態下均勻的剪切、乳化,保證了產品的細膩度。
作為本發明的選方案,所述中心攪拌槳上的三個阻流板的長度由上而下遞減。
作為本發明的進一步優選方案,所述刮壁攪拌裝置內側的上三個阻流板與中心攪拌槳上的三個阻流板在同一平面上。
作為本發明的進一步優選方案,所述刮壁攪拌裝置內側的四個阻流板大小規格相同。
作為本發明的進一步優選方案,所述上分散盤設置在中心攪拌槳上的第二阻流板與第三阻流板之間區域,所述下分散盤設置在中心攪拌槳上的第三阻流板的下方區域。
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