[發明專利]用于制造逆反射制品的基材在審
| 申請號： | 201910113764.4 | 申請日： | 2015-11-18 |
| 公開（公告）號： | CN110133777A | 公開（公告）日： | 2019-08-16 |
| 發明（設計）人： | S·R·查普曼;E·蓋里西亞;F·吳 | 申請（專利權）人： | 艾利丹尼森公司 |
| 主分類號： | G02B5/124 | 分類號： | G02B5/124;B29D11/00 |
| 代理公司： | 北京世峰知識產權代理有限公司 11713 | 代理人： | 卓霖;許向彤 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 逆反射制品 凹部 基部 基材 唇緣 棱鏡元件陣列 模具制造 參考邊 拼接 模具 制造 申請 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于制造逆反射制品的基材，所述基材包括：
包含棱鏡元件陣列的表面；
一個或多個凹部，所述一個或多個凹部中的每個凹部至少部分地由參考邊來限定；和
基部，所述基部包括唇緣，所述唇緣限定所述基部的周邊。
2.根據權利要求1所述的基材，其中所述參考邊具有約90°的壁角。
3.根據權利要求1或2所述的基材，其中所述參考邊與所述棱鏡元件陣列共有共用邊。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的基材，其中，所述參考邊的高度大于所述棱鏡元件陣列的高度。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的基材，其中，所述棱鏡陣列的橫向尺寸小于所述基部的橫向尺寸。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的基材，其中所述棱鏡元件陣列由所述一個或多個凹部來界定。
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