[發明專利]一種基于局部直方圖的聚焦測度實現方法有效
| 申請號: | 201910101956.3 | 申請日: | 2019-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN109859151B | 公開(公告)日: | 2023-07-14 |
| 發明(設計)人: | 劉戀;郭立強 | 申請(專利權)人: | 淮陰師范學院 |
| 主分類號: | G06T5/40 | 分類號: | G06T5/40;G06T5/20;G06T5/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 223300 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 局部 直方圖 聚焦 測度 實現 方法 | ||
1.一種基于局部直方圖的聚焦測度實現方法,其特征在于:具體步驟如下:
步驟S1:將原始圖像像素的行數和列數均調整為2n的整數倍,其中n為正整數,得到圖像f(x,y),圖像f(x,y)的行數和列數分別用M和N表示;然后對f(x,y)進行高斯濾波處理得到濾波后的圖像g(x,y);
步驟S2:對圖像g(x,y)進行分塊處理,得到大小為2n×2n像素的子圖像Si(x,y),其中i=1,2,...,M×N/22n;子圖像Si(x,y)的變量取值為:x=0,1,...,2n-1,y=0,1,...,2n-1;
步驟S3:計算每一幅子圖像的直方圖;
步驟S4:對子圖像的直方圖信息進行統計來構造子圖像的清晰度并標記為Fi;
步驟S5:將所有子圖像清晰度Fi所構成的集合記為{Fi|i=1,2,...,M×N/22n},求該集合的方差,并把方差值作為整幅圖像的聚焦測度值;
所述步驟S3中,計算子圖像Si(x,y)直方圖的公式為:
其中rk是子圖像像素的灰度級,rk∈[0,255];nk是灰度值為rk的像素的個數,22n是子圖像中像素的總個數;
所述步驟S4中子圖像清晰度Fi是通過統計0-127灰度級的直方圖信息,即進行累加求和得到的,具體計算公式為:
2.如權利要求1所述的基于局部直方圖的聚焦測度實現方法,其特征在于:所述步驟S1中,高斯濾波的公式為:
其中σ=3。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于淮陰師范學院,未經淮陰師范學院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910101956.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





