[發明專利]制備含有活性吸氣劑的真空絕緣玻璃(VIG)窗單元的方法有效
| 申請號: | 201910100123.5 | 申請日: | 2013-07-19 |
| 公開(公告)號: | CN110107195B | 公開(公告)日: | 2021-05-14 |
| 發明(設計)人: | 約翰·P·霍根;安德魯·W·潘特克;魯道夫·H·帕奇馬克 | 申請(專利權)人: | 佳殿玻璃有限公司 |
| 主分類號: | C03B23/24 | 分類號: | C03B23/24;E06B3/66;E06B3/677 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 柳春琦 |
| 地址: | 美國密*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 含有 活性 吸氣 真空 絕緣 玻璃 vig 單元 方法 | ||
提供一種制備真空絕緣玻璃(VIG)窗單元的方法,包括在制備VIG窗單元的過程中激活吸氣劑。在示例性實施例中,至少一個吸氣劑,在基片之間的腔被排空的泵出/排空過程期間和/或結束時被激活。在示例性實施例中,所述吸氣劑,可在基片之間的腔被排空至低于大氣壓的低壓的排空過程期間和/或結束時被激活(例如,通過至少一個激光束直接穿過泵出管)。
技術領域
本公開涉及一種真空絕緣玻璃(VIG)窗單元配置以及用于制備VIG窗單元的方法。特別是,該公開涉及一種在制備VIG窗單元的過程中激活吸氣劑的技術。在示例性實施例中,至少一個吸氣劑,在基片之間的腔被排空 (例如泵送)的泵出過程期間和/或結束時被激活。吸氣劑通常被分成兩種類型:蒸發性吸氣劑(EGs)和非蒸發性吸氣劑(NEGs)。雖然,本公開適用于EG 和NEG兩種類型,但特別適用于含有NEG類型吸氣材料的吸氣劑,其具有較低的激活溫度。
背景技術
真空絕緣玻璃(VIG)窗單元通常包括至少兩個分離的玻璃基片,其中附有排空的低壓空間/腔。上述基片由外邊緣密封互相連接并通常包括隔離片,位于玻璃基片之間,來保持玻璃基片之間的間距,防止由于基片之間的低壓排空的環境而造成玻璃基片損毀。一些示例性VIG配置在類似美國專利 Nos.5,657,607,5,664,395,5,657,607,5,902,652,6,506,472和6,383,580中被公開,在此其公開的內容被納入此處作為參照。
圖1和圖2示出現有的VIG窗單元1和用于形成VIG單元1的元件。例如VIG單元1可包括兩個分離的玻璃基片2、3,其中附有排空的低壓空間/腔6。玻璃片或基片2、3由外邊緣密封4互相連接,其可由熔融焊料玻璃被制成。玻璃基片2、3之間可包括一組支承柱/隔離片5,鑒于基片2、3 之間存在的低壓空間/間隙6,來維持VIG單元1的玻璃基片2、3的間距。
泵出管8可通過焊料玻璃9被氣密密封至空穴/孔10,從玻璃基片2的內表面通向玻璃基片2外表面中的凹槽11底部,或選擇性地至玻璃基片2 的外表面。真空被連接至泵出管8,將內部腔6排空(例如泵送)至低于大氣壓的低壓。在腔6排空后,管8的部分(例如,頂端)被熔化來密封低壓腔/空間6中的真空。選擇性的凹槽11可用來固定密封的泵出管8。
如圖1-2中所示出的,吸氣劑12可包括在凹槽13內,該凹槽配置在玻璃基片中的一個地內表面中,例如,玻璃基片2。吸氣劑12可用來吸收和/ 或結合一些可能遺留在排空或密封的腔6中的殘余雜質。該吸氣劑包括金屬混合,可與氣體反應,將氣體雜質保持在吸氣表面和/或溶解該氣體。
發明內容
在此公開的技術用于在制備VIG窗單元的過程中激活吸氣劑。在示例性實施例中,至少一個吸氣劑,在基片之間的腔被排空的泵出過程期間和/或結束時被激活。
在本發明的示例性實施例中,提供一種制備真空絕緣玻璃(VIG)窗單元的方法,所述方法包括:配置平行的第一和第二玻璃基片,將多個隔離片和密封配置在所述第一和第二基片之間,并將位于所述玻璃基片之間的腔排空至低于大氣壓的壓力,并在所述腔中配置至少一個吸氣劑;以及在所述腔被排空至低于大氣壓的壓力的排空過程期間和/或基本結束時,激活所述吸氣劑。
在本發明的示例性實施例中,提供一種制備真空絕緣玻璃(VIG)窗單元的方法,所述方法包括:配置平行的第一和第二玻璃基片,將一組隔離片和密封配置在所述第一和第二基片之間,并將位于所述玻璃基片之間的腔排空至低于大氣壓的壓力,且吸氣劑由所述第一基片支撐;以及引導激光束穿過由所述第二基片支撐的泵出管,從而所述激光束沖擊所述吸氣劑并激活所述吸氣劑。
以下,有關示例性實施例參照附圖對上述和其他實施例的優點進行說明,其中,相同的參照符號表示相同的元件。
附圖說明
圖1是示出現有的VIG單元的橫截面示圖;
圖2是圖1中現有的VIG單元的俯視圖;
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