[發明專利]一種吸附力均勻的真空吸附平臺

在審

• 申請號: 201910099093.0
• 申請日: 2019-01-31
• 公開（公告）號: CN109676552A
• 公開（公告）日: 2019-04-26
• 發明（設計）人: 詹杰民;李雨田;胡文清;甄燦燊;羅瑩瑩;陳志涯
• 申請（專利權）人: 中山大學
• 主分類號: B25B11/00
• 分類號: B25B11/00
• 代理公司: 廣州潤禾知識產權代理事務所(普通合伙) 44446
• 代理人: 楊釗霞;張柳

1.一種吸附力均勻的真空吸附平臺，包括底座(1)、蜂窩支撐層(2)及面板(3)，底座(1)上設有抽氣孔(11)，蜂窩支撐層(2)設于底座(1)上，面板(3)上設有多個吸氣孔(31)；其特征在于，還包括設于蜂窩支撐層(2)與面板(3)之間的均壓腔室(4)，均壓腔室(4)上設有與抽氣孔(11)連通的通氣孔(41)，均壓腔室(4)上設有多個支撐結構(42)，支撐結構(42)用于支撐面板(3)。

2.根據權利要求1所述的一種吸附力均勻的真空吸附平臺，其特征在于，抽氣孔(11)上設有抽氣管道(12)，通氣孔(41)和抽氣孔(11)通過抽氣管道(12)連通。

3.根據權利要求1所述的一種吸附力均勻的真空吸附平臺，其特征在于，蜂窩支撐層(2)圍繞抽氣孔(11)設置的部分形成抽氣通道，通氣孔(41)和抽氣孔(11)通過抽氣通道連通。

4.根據權利要求1所述的一種吸附力均勻的真空吸附平臺，其特征在于，所述支撐結構(42)為圓柱體、正方體或長方體結構。

5.根據權利要求1所述的一種吸附力均勻的真空吸附平臺，其特征在于，多個支撐結構(42)均勻設置于均壓腔室(4)上。

6.根據權利要求5所述的一種吸附力均勻的真空吸附平臺，其特征在于，多個支撐結構(42)呈行列均勻設置于均壓腔室(4)上。

7.根據權利要求1至6任一項所述的一種吸附力均勻的真空吸附平臺，其特征在于，吸氣孔(31)分多塊設于面板(3)上，且不同塊內吸氣孔(31)的孔徑和相鄰吸氣孔之間的間距不同。