[發(fā)明專利]用于可清洗和/或固態(tài)傳導線路系統(tǒng)的閥塊及分配線路系統(tǒng)

在審

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• 申請日: 2019-01-31
• 公開（公告）號: CN111503325A
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發(fā)明（設計）人: 馬卡斯·米爾特茲;邁克爾·米爾特茲;貝恩德·瑞格樂;利奧·奧瑞勞特;貝亞特·比特利;賴納·考爾巴斯赫;盧西恩·考斯
• 申請（專利權）人: 法伊弗化學設備制造有限公司;格斯丹尼肯核電股份公司
• 主分類號: F16K11/22
• 分類號: F16K11/22;F16K11/08;F16K27/06
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 杜陽陽

1.一種用于技術工廠、諸如核電廠的可清洗和/或固態(tài)傳導線路系統(tǒng)(100)的閥塊(2、200、300、400、500)，包括至少兩個旋轉控制閥，諸如球閥(11、11a、11b、11c、11d、21a、21b)、塞閥等，其中，所述旋轉控制閥各自包括至少一個線路輸入端(A)和至少一個線路輸出端(C、D、E)以及各自具有至少一個通道(15c、15d、15e、25)的能旋轉的控制構件(13、23)，其中，在所述控制構件的打開位置，所述線路輸入端(A)通過通道(15c、15d、15e、25)連接到所述線路輸出端(C、D、E)，且其中，在關閉位置，所述控制構件(13、23)使所述線路輸入端(A)與所述線路輸出端(C、D、E)分離，

其特征在于，

所述至少兩個旋轉控制閥能繞同一旋轉軸線(R)旋轉，并且所述至少兩個旋轉控制閥的控制構件(13、23)以不能旋轉的方式相互連接，以及

第一旋轉控制閥的通道(15c、15d、15e、25)相對于第二旋轉控制閥的通道(15c、15d、15e、25)優(yōu)選在所述旋轉軸線(R)的軸向(L)上彼此呈平面平行偏移。

2.根據(jù)權利要求1所述的閥塊(2、200、300、400、500)，其特征在于，所述旋轉控制閥中的至少一個包括至少兩個線路輸入端(A、B、F)以及具有至少兩個通道(15c、15d、15e、25)的至少一個控制構件(13、23)，所述至少兩個通道(15c、15d、15e、25)各自配屬于所述至少兩個線路輸入端(A、B、F)中的一個。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的閥塊(2、200、300、400、500)，其特征在于，在活化打開位置，活化通道(15c、15d、15e、25)使線路輸入端(A、B、F)連接到線路輸出端(C、D、E)，特別是所述活化通道(15c、15d、15e、25)與所述線路輸入端(A、B、F)和/或所述線路輸出端(C、D、E)對齊，優(yōu)選具有相同橫截面、同軸和/或無死區(qū)。

4.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的閥塊(200、300、400、500)，其特征在于，所述旋轉控制閥中的至少一個是分配閥，所述分配閥具有特別是布置在同一平面內(nèi)的至少一個線路輸入端(A、B、F)、至少兩個線路輸出端(C、D、E)和至少兩個分離的通道(15c、15d、15e)，所述分配閥具有第一活化打開位置，在此第一通道(15d)使所述線路輸入端(A)連接到第一線路輸出端(D)，且其中，所述分配閥具有第二活化打開位置，在此第二通道(15c、15e)使所述線路輸入端(A)連接到第二線路輸出端(C、E)。

5.一種用于技術工廠、諸如核電廠、特別是用于收集放射性核素的分配線路系統(tǒng)(100)，具有至少一個根據(jù)前述權利要求中任一項所述的閥塊。

6.根據(jù)權利要求5所述的分配線路系統(tǒng)(100)，其特征在于其具有至少一個根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的閥塊，其中，所述閥塊(2)的線路輸出端(C、D、E)與線路系統(tǒng)內(nèi)部區(qū)段、諸如高壓區(qū)段、例如反應堆芯區(qū)段(1001)流體連通，并且所述閥塊(2)的線路輸入端(A、B、F)與線路系統(tǒng)外部區(qū)段、諸如低壓區(qū)段、例如反應堆外部區(qū)段流體連通，其中，特別是所述閥塊(2)實現(xiàn)為應急關閉閥塊，用于使所述線路系統(tǒng)內(nèi)部區(qū)段與所述線路系統(tǒng)外部區(qū)段分離。

7.根據(jù)權利要求6所述的分配線路系統(tǒng)，其特征在于，所述閥塊(2)包括多個旋轉控制閥，特別是金屬密封球閥(21)，且其中，所述閥塊包括10個以下、優(yōu)選6個以下、特別優(yōu)選5個以下、特別是正好2個、3個或4個與所述線路系統(tǒng)內(nèi)部區(qū)段流體連通的線路輸出端(C、D、E)。

8.根據(jù)權利要求5至7中任一項所述的分配線路系統(tǒng)(100)，其特征在于具有根據(jù)權利要求4所述的至少一個分配閥塊(200)。