[發(fā)明專利]激光加工產(chǎn)品表面處理的方法與系統(tǒng)

在審

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• 申請日: 2019-01-31
• 公開（公告）號: CN109732215A
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 曹洪濤;黃龍;姚瑤;胡述旭;呂啟濤;高云峰
• 申請（專利權(quán)）人: 大族激光科技產(chǎn)業(yè)集團股份有限公司
• 主分類號: B23K26/362
• 分類號: B23K26/362;B23K26/70;C04B41/91
• 代理公司: 深圳市恒申知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44312
• 代理人: 彭海民

1.一種激光加工產(chǎn)品表面處理的方法，其特征在于，所述方法包括：

通過激光加工設(shè)備對待加工產(chǎn)品的表面進行激光加工，以使所述待加工產(chǎn)品的表面被雕刻上所述激光加工設(shè)備的預(yù)設(shè)圖案；

將進行激光加工后的所述待加工產(chǎn)品放入燒結(jié)爐中，調(diào)節(jié)所述燒結(jié)爐中的溫度，直至所述待加工產(chǎn)品的表面已雕刻的預(yù)設(shè)圖案的顏色變?yōu)榘咨?/p>

冷卻所述燒結(jié)爐，得到加工后的產(chǎn)品。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述通過激光加工設(shè)備對待加工產(chǎn)品的表面進行激光加工，以使所述待加工產(chǎn)品的表面被雕刻上所述激光加工設(shè)備的預(yù)設(shè)圖案的具體步驟包括：

將所述待加工產(chǎn)品放置于所述激光加工設(shè)備的激光加工平臺中；

開啟所述激光加工設(shè)備，調(diào)節(jié)所述激光加工設(shè)備的焦距，使所述激光加工設(shè)備的激光聚焦點位于所述待加工產(chǎn)品的鐳射區(qū)域；

調(diào)整所述激光加工設(shè)備的鐳射參數(shù)，并通過控制激光加工設(shè)備輸出激光的走向，在所述待加工產(chǎn)品的鐳射區(qū)域刻蝕出所述預(yù)設(shè)圖案，所述鐳射參數(shù)用于控制所述待加工產(chǎn)品的表面的鐳射深度和顏色變化。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述調(diào)節(jié)所述燒結(jié)爐中的溫度的步驟具體包括：

調(diào)節(jié)所述燒結(jié)爐中的溫度持續(xù)升高至預(yù)置溫度，并在預(yù)置時間段內(nèi)保持所述燒結(jié)爐中的溫度為預(yù)置溫度。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述調(diào)節(jié)所述燒結(jié)爐中的溫度持續(xù)升高至預(yù)置溫度，并在預(yù)置時間段內(nèi)保持所述燒結(jié)爐中的溫度為預(yù)置溫度的步驟具體包括：

以1℃/分鐘-10℃/分鐘的升溫速度調(diào)節(jié)所述燒結(jié)爐的溫度升高至600-1000℃，將所述燒結(jié)爐保溫1-3小時。

5.一種激光加工產(chǎn)品表面處理的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括：激光加工設(shè)備和可調(diào)節(jié)溫度的燒結(jié)爐；

所述激光加工設(shè)備用于對待加工產(chǎn)品的表面進行激光加工，以使所述待加工產(chǎn)品的表面被雕刻上所述激光加工設(shè)備的預(yù)設(shè)圖案；

所述燒結(jié)爐用于調(diào)節(jié)已進行激光加工后的所述待加工產(chǎn)品的溫度，以使所述待加工產(chǎn)品的表面已雕刻的預(yù)設(shè)圖案的顏色變?yōu)榘咨?/p>

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述激光加工設(shè)備包括：激光加工平臺、激光裝置和振鏡；

所述激光加工平臺用于放置所述待加工產(chǎn)品；

所述激光裝置用于輸出激光，所述激光的聚焦點位于所述待加工產(chǎn)品的鐳射區(qū)域；

所述激光裝置還用于通過控制鐳射參數(shù)來控制所述待加工產(chǎn)品的表面的鐳射深度和顏色變化；

所述振鏡用于控制輸出激光的走向，以在所述待加工產(chǎn)品的鐳射區(qū)域刻蝕出預(yù)設(shè)圖案。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述激光加工設(shè)備還包括支具，所述待加工產(chǎn)品通過所述支具固定在所述激光加工平臺中，所述待加工產(chǎn)品的表面與所述振鏡的鏡面相互平行。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述燒結(jié)爐通入的氣體包括氮氣、氬氣、還原性氫氣中的一種或多種。

9.根據(jù)權(quán)利要求5至8任意一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述激光裝置為納秒激光器，所述納秒激光器的波長為1064nm、532nm、355nm中的任意一項。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述燒結(jié)爐具體用于通過以1℃/分鐘-10℃/分鐘的升溫速度調(diào)節(jié)已進行激光加工后的所述待加工產(chǎn)品的溫度升高至600-1000℃，并保溫1-3小時。