[發明專利]應用于光刻的光瞳相位優化方法

有效

• 申請號: 201910093998.7
• 申請日: 2019-01-30
• 公開（公告）號: CN109634069B
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發明（設計）人: 李艷秋;李鐵;閆旭;劉陽;孫義鈺
• 申請（專利權）人: 北京理工大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京理工大學專利中心 11120
• 代理人: 郭德忠;李愛英

1.一種應用于光刻的光瞳相位優化方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1：獲取光源圖形和掩模圖形對應的三維掩模衍射頻譜，并初始化光瞳相位分布；

S2：構造目標函數D

其中，為目標圖形中坐標為(x,y)的像素點的像素值，Z(x,y,W,W_abe,m)表示光刻膠中成像坐標為(x,y)的像素點的像素值，F_m為光刻物鏡第m個視場點對應的成像保真度函數，W_abe,m為光刻物鏡第m個視場點對應的像差，k為光刻物鏡視場點的個數，其中，光刻膠中成像各像素點的像素值利用矢量成像模型通過步驟S1中的三維掩模衍射頻譜、光瞳相位分布W和光刻物鏡像差W_abe,m計算得到；

S3：將光瞳相位分布W進行澤尼克多項式展開，得到其中，Γ_i是第i項澤尼克多項式，c_i為第i項澤尼克多項式對應的澤尼克系數，i＝1,2,…,37；

S4：利用共軛梯度法，將澤尼克系數c_i更新為c_i+s_cd^(t)，其中s_c為預先設定的優化步長，d^(t)為第t次更新方向；當更新次數t＝1時，當更新次數t1時，其中在以上各公式中，其中

其中，x_s和y_s表示光源平面的坐標，表示坐標為(x_s,y_s)的光源點的強度，J_sum表示所有光源點的強度之和，是一個歸一化系數；p表示光的偏振方向，z表示沿直角坐標系z軸方向振動的光波偏振分量；1_N×1表示各元素均為1的N維列向量，上標T表示轉置，因此表示各元素均為1的N維行向量；

每更新一次澤尼克系數，就計算一次當前澤尼克系數c_i對應的光瞳相位分布W和目標函數D，直到目標函數D的值小于預定閾值δD或更新澤尼克系數c_i的次數達到預定上限值K_P時，則將當前的光瞳相位分布W確定為經過優化后的光瞳相位分布。