[發明專利]一種衍射效率漸變的光柵耦合器制備裝置和制備方法

有效

• 申請號: 201910092457.2
• 申請日: 2019-01-30
• 公開（公告）號: CN109597157B
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發明（設計）人: 蔡志堅;吳建宏
• 申請（專利權）人: 蘇州大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18
• 代理公司: 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙) 32257
• 代理人: 楊慧林

1.一種衍射效率漸變的光柵耦合器制備裝置，其特征在于，包括：

離子束發生器，其發出離子束以刻蝕光柵；

擋板，其位于所述離子束發生器的下側，所述擋板上開設有通孔；沿x方向，所述通孔在y方向的寬度漸變；

樣品臺，其位于所述擋板下側，所述樣品臺用于放置樣品，所述樣品為光柵基板，所述光柵基板上設置有光柵掩膜；

動力組件，其驅動所述樣品臺或所述擋板沿y方向勻速運動；

其中，x方向和y方向為水平面上相互垂直的方向；所述動力組件驅動所述樣品與所述通孔在y方向發生相對移動，所述離子束經所述通孔在樣品上刻蝕出槽深漸變的光柵；所述通孔呈y(x)＝γ.f[η(x)]分布；其中，η(x)為光柵沿x方向的光柵耦合器效率函數；f為光柵耦合器效率與槽深的函數，即d＝f(η),其中，d為槽深；γ為一個常系數，代表單位槽深對應需要的擋板開口寬度；η(x)滿足方程其中k為小于1的常數，k大于0。

2.如權利要求1所述的光柵耦合器制備裝置，其特征在于，所述擋板上的通孔由濕法腐蝕法制備。

3.如權利要求1所述的光柵耦合器制備裝置，其特征在于，所述擋板為不銹鋼材質。

4.如權利要求1所述的光柵耦合器制備裝置，其特征在于，所述擋板與所述樣品臺平行設置。

5.如權利要求1所述的光柵耦合器制備裝置，其特征在于，所述離子束垂直入射或傾斜入射到所述擋板上。

6.一種衍射效率漸變的光柵耦合器制備方法，基于權利要求1-5任一項所述的光柵耦合器制備裝置，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一、將所述擋板固定，在所述樣品臺上樣品；

步驟二、所述動力組件驅動所述樣品臺沿y方向勻速移動，所述離子束經所述通孔對樣品進行刻蝕操作。