[發明專利]PMMA間隔的金納米立方體與金膜復合結構低濃度檢測SERS基底在審
| 申請號： | 201910092281.0 | 申請日： | 2019-01-30 |
| 公開（公告）號： | CN109696433A | 公開（公告）日： | 2019-04-30 |
| 發明（設計）人： | 王向賢;朱劍凱;白雪琳;吳淵;龐志遠;童歡;吳梟雄;楊華 | 申請（專利權）人： | 蘭州理工大學 |
| 主分類號： | G01N21/65 | 分類號： | G01N21/65;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251 | 代理人： | 楊學明;顧煒 |
| 地址： | 730050 甘肅*** | 國省代碼： | 甘肅;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 納米立方體 低濃度檢測 復合結構 金膜 薄膜 表面增強拉曼散射 局域表面等離子體 表面等離子體 表面等離子 電場增強 耦合 待測物 低成本 金薄膜 強共振 正入射 鈦薄膜 襯底 基底 吸附 光譜 靈敏 玻璃 激發 檢測 傳播 | ||
1.PMMA間隔的金納米立方體與金膜復合結構低濃度檢測SERS基底，其特征在于，所述的基底依次包括玻璃襯底(1)，鈦薄膜(2)，金薄膜(3)，PMMA薄膜(4)、金納米立方體(5)、吸附在PMMA薄膜(4)和金納米立方體(5)表面的待測物(6)；當TM偏振光正入射PMMA間隔的金納米立方體與金膜復合結構表面時，將激發金納米立方體(5)周圍的局域表面等離子體，局域表面等離子體散射到金薄膜(3)上，從而激發PMMA薄膜(4)和金薄膜(3)界面的傳播表面等離子體，傳播表面等離子與局域表面等離子體相互作用，產生很強的共振耦合，從而使得復合結構有更高的電場增強，這種強電場將激發吸附在復合結構中的待測物(6)的拉曼光譜，因此，復合結構可以產生很強的SERS信號。
2.根據權利要求1所述的PMMA間隔的金納米立方體與金膜復合結構低濃度檢測SERS基底，其特征在于，所述的鈦薄膜(2)和金薄膜(3)，通過磁控濺射法制備，所述的PMMA薄膜(4)通過旋涂法制備。
3.根據權利要求1所述的PMMA間隔的金納米立方體與金膜復合結構低濃度檢測SERS基底，其特征在于，通過化學方法制備得到金納米立方體(5)水溶液，與待測物(6)水溶液混合后，得到金納米立方體(5)和待測物(6)的混合水溶液。
4.根據權利要求1所述的PMMA間隔的金納米立方體與金膜復合結構低濃度檢測SERS基底，其特征在于，將金納米立方體(5)和待測物(6)的混合水溶液，滴涂在PMMA薄膜(4)表面，自然晾干，得到吸附了待測物(6)的PMMA間隔的金納米立方體與金膜復合結構，用于SERS檢測。
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