[發(fā)明專利]用于結(jié)合電信設(shè)備中的光學(xué)模塊減輕電磁噪聲的裝置、系統(tǒng)和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910087291.5 | 申請日: | 2019-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN110099309B | 公開(公告)日: | 2022-05-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | A·塔勒布扎德赫;P·C·索克豪克斯;李靖;劉謙;K·高斯 | 申請(專利權(quán))人: | 瞻博網(wǎng)絡(luò)公司 |
| 主分類號: | H04Q1/02 | 分類號: | H04Q1/02 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 酆迅;姚杰 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 結(jié)合 電信設(shè)備 中的 光學(xué) 模塊 減輕 電磁 噪聲 裝置 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種用于減少電磁噪聲的裝置,包括:
保持架,所述保持架:
被耦合到電信設(shè)備的電路板;以及
包括隔室,專用于容納促進(jìn)用于所述電信設(shè)備的通信的光學(xué)模塊;
散熱器,所述散熱器包括基架,其中所述散熱器:
在所述光學(xué)模塊未被安裝在所述保持架中時,位于所述保持架的頂部上的基本位置中,使得所述基架經(jīng)由所述保持架的開口延伸到所述保持架的所述隔室中;以及
在所述光學(xué)模塊被安裝到所述保持架中時,由于所述基架和所述光學(xué)模塊的物理接觸,被從所述基本位置提升到升高位置;
通過所述基架和所述光學(xué)模塊之間的所述物理接觸吸收在所述電信設(shè)備中的操作期間由所述光學(xué)模塊所生成的熱量;以及
墊片,所述墊片:
駐留在所述散熱器與所述保持架之間;
填充所述散熱器和所述保持架之間的空間;
從所述保持架的所述開口延伸到所述保持架的第一壁,超出所述散熱器的第一邊緣;
從所述保持架的所述開口延伸到所述保持架的第二壁,超出所述散熱器的第二邊緣;
結(jié)合所述電信設(shè)備中的所述光學(xué)模塊的操作減少電磁噪聲;以及
通過粘合劑粘附到所述散熱器,所述粘合劑即使在所述光學(xué)模塊從所述保持架被移除時,也能保持所述墊片抵靠所述散熱器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,還包括至少一個夾片,所述夾片壓住經(jīng)由所述保持架的所述開口抵靠所述光學(xué)模塊的所述散熱器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述墊片:
以矩形形狀被成形;以及
包括開口,所述散熱器通過所述開口與所述光學(xué)模塊進(jìn)行物理接觸。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其中所述散熱器包括基架,所述基架:
朝向所述光學(xué)模塊延伸;以及
穿過所述墊片的所述開口和所述保持架的所述開口以與所述光學(xué)模塊進(jìn)行物理接觸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述墊片通過防止由所述光學(xué)模塊所生成的至少一些電磁噪聲逃離所述保持架來結(jié)合所述光學(xué)模塊的所述操作減少所述電磁噪聲。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述墊片通過防止由物理地接近于所述電信設(shè)備定位的另一設(shè)備所生成的至少一些電磁噪聲穿透所述保持架來結(jié)合所述光學(xué)模塊的所述操作減少所述電磁噪聲。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述墊片通過以下項結(jié)合所述光學(xué)模塊的所述操作減少所述電磁噪聲:
填充所述散熱器與所述保持架之間的空氣間隙;以及
增加所述保持架的屏蔽效應(yīng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其中所述散熱器與所述保持架之間的所述空氣間隙在將所述光學(xué)模塊安裝到所述保持架中期間隨著所述散熱器上升而被形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述墊片包括彈性體。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中,所述墊片圍繞所述保持架的所述開口形成部分密封,使得盡管所述墊片駐留在所述散熱器和所述保持架之間,空氣仍然能夠到達(dá)并冷卻所述光學(xué)模塊。
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