[發明專利]投影鏡頭和使用投影鏡頭的投影顯示裝置有效
| 申請號: | 201910084417.3 | 申請日: | 2019-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN110095926B | 公開(公告)日: | 2021-10-08 |
| 發明(設計)人: | 桑代慎 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03B21/14 | 分類號: | G03B21/14;G02B15/14 |
| 代理公司: | 北京怡豐知識產權代理有限公司 11293 | 代理人: | 遲軍;李艷麗 |
| 地址: | 日本國東京都*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 投影 鏡頭 使用 顯示裝置 | ||
本發明公開了投影鏡頭和使用投影鏡頭的投影顯示裝置。投影鏡頭包括多個透鏡單元以及光圈,其中在聚焦期間在所述投影鏡頭的光軸方向上移動的透鏡單元充當所述多個透鏡單元當中的聚焦透鏡單元的情況下,包括在所述多個透鏡單元當中與所述聚焦透鏡單元不同的透鏡單元中、并且比所述光圈更靠縮小共軛側設置的至少一個透鏡被配置為在調整像場彎曲量以聚焦在曲面投影表面上時在所述光軸方向上移動,并且其中當調整所述像場彎曲量時,所述至少一個透鏡和聚焦透鏡單元這兩者在所述光軸方向上移動。
技術領域
本發明涉及投影鏡頭系統和使用投影鏡頭系統的投影顯示裝置。
背景技術
近年來,已存在對能夠不僅在平面屏幕上而且在曲面屏幕上投影沒有模糊的圖像的投影儀的需要。為了在平面屏幕和曲面屏幕上投影具有較少模糊的圖像,投影鏡頭需要具有用于調整像場彎曲(field curvature)量的功能。
作為像場彎曲量可調整的投影鏡頭,已知日本專利申請特開No.2015-49340中討論的投影鏡頭。為了校正由溫度變化引起的投影鏡頭的像場彎曲,日本專利申請特開No.2015-49340中討論的投影鏡頭被配置為在投影鏡頭的光軸方向上移動設置在液晶面板側的透鏡單元中的透鏡的一部分(校正透鏡)。雖然在日本專利申請特開No.2015-49340中討論的投影鏡頭中像場彎曲量可調整,但是這樣的配置不是用于在上述曲面屏幕上投影具有較少模糊的圖像的目的。
上述校正透鏡移動時發生的像場彎曲被作為透鏡當中比校正透鏡更靠前側(放大共軛側)設置的透鏡并且具有擴大效果的透鏡放大。因此,如果具有擴大效果的許多透鏡比校正透鏡更靠前側設置,那么用于實現某一像場彎曲量的校正透鏡的移動量減少。這允許整個投影鏡頭的小型化。
然而,在日本專利申請特開No.2015-49340中討論的投影鏡頭中,校正透鏡比光圈(diaphragm)更靠前側(即,整個投影鏡頭的中心附近)定位。因此,與校正透鏡比光圈更靠后側(縮小共軛側)定位的情況相比,存在具有擴散效果并且比校正透鏡更靠前側設置的少量透鏡。這增大了校正透鏡的移動量。
更具體地,當用戶嘗試使用日本專利申請特開No.2015-49340中討論的投影鏡頭投影曲面屏幕上具有較少模糊的圖像時,有必要增大校正透鏡的移動量。這可能導致整個投影鏡頭的尺寸的增大。
發明內容
本發明針對的是提供像場彎曲量可調整并且具有比傳統的投影鏡頭小的尺寸的投影鏡頭以及使用投影鏡頭的投影顯示裝置。
根據本發明的一方面,投影鏡頭包括多個透鏡單元以及光圈,其中所述多個透鏡單元以使得相鄰透鏡單元之間的間隔在變焦或聚焦期間改變的方式配置,其中在聚焦期間在所述投影鏡頭的光軸方向上移動的透鏡單元充當所述多個透鏡單元當中的聚焦透鏡單元的情況下,包括在所述多個透鏡單元當中與所述聚焦透鏡單元不同的透鏡單元中、并且比所述光圈更靠縮小共軛側設置的至少一個透鏡被配置為在調整像場彎曲量以聚焦在曲面投影表面上時在所述光軸方向上移動,并且其中當調整所述像場彎曲量時,所述至少一個透鏡和聚焦透鏡單元這兩者在所述光軸方向上移動。
從以下參考附圖的示例性實施例的描述,本發明的進一步的特征將變得清楚。
附圖說明
圖1是示出根據第一示例性實施例的投影鏡頭的截面圖。
圖2是示出使用根據第一示例性實施例的投影鏡頭將圖像投影在凹形曲面屏幕上的狀態的圖。
圖3是示出使用根據第一示例性實施例的投影鏡頭將圖像投影在凹形曲面屏幕上的狀態的放大視圖。
圖4是示出在使用根據第一示例性實施例的投影鏡頭將圖像投影在凹形曲面屏幕上的情況下的像散的圖。
圖5是示出使用根據第一示例性實施例的投影鏡頭將圖像投影在凸形曲面屏幕上的狀態的圖。
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