[發明專利]微粒制造裝置以及微粒制造方法

有效

• 申請號: 201910082964.8
• 申請日: 2019-01-28
• 公開（公告）號: CN110124599B
• 公開（公告）日: 2021-11-12
• 發明（設計）人: 永井久雄;小巖崎剛;大熊崇文
• 申請（專利權）人: 松下知識產權經營株式會社
• 主分類號: B01J19/08
• 分類號: B01J19/08
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 齊秀鳳

1.一種微粒制造裝置，具備：

反應室，沿著鉛垂方向從下方朝向上方延伸；

材料供給裝置，與所述反應室內的鉛垂下方的一端側的中央部連接，從材料供給口朝向鉛垂上方將材料粒子供給到所述反應室內；

第1電極配置區域，在比所述材料供給裝置更靠鉛垂上方的所述反應室內的內周壁，具有向朝內的半徑方向突出配置且被施加交流電力的多個下部電極；

第2電極配置區域，在比所述第1電極配置區域更靠鉛垂上方的所述反應室內的內周壁，具有向朝內的半徑方向突出配置且被施加交流電力的多個上部電極；

回收部，與所述反應室內的鉛垂上方的另一端側連接，對微粒進行回收；

電源，能夠變更向所述第1電極配置區域中包含的所述下部電極和所述第2電極配置區域中包含的所述上部電極當中的至少一方的電極施加的交流電力的頻率；和

控制部，對所述電源進行控制，使得將向所述下部電極施加的交流電力的頻率設定為在向所述上部電極施加的交流電力的頻率以上的頻率，

通過所述下部電極和所述上部電極產生電弧放電，從而在所述反應室內產生等離子體，由所述材料粒子生成微粒，

至少使向所述下部電極施加的交流電力的頻率比作為商用頻率的60Hz高。

2.根據權利要求1所述的微粒制造裝置，其中，

配置所述下部電極以及所述上部電極，使得由所述第1電極配置區域中包含的所述下部電極的前端彼此形成的圓的直徑在由所述第2電極配置區域中包含的所述上部電極的前端彼此形成的圓的直徑以下。

3.根據權利要求1或2所述的微粒制造裝置，其中，

所述第1電極配置區域中包含的所述下部電極和所述第2電極配置區域中包含的所述上部電極配置為：在從所述材料粒子流動的鉛垂下方觀察鉛垂上方時，所述下部電極和所述上部電極相互不重疊。

4.根據權利要求3所述的微粒制造裝置，其中，

所述下部電極和所述上部電極配置為在從鉛垂上方觀察時相對錯開30°。

5.根據權利要求1、2、4中任一項所述的微粒制造裝置，其中，

在包含從所述材料粒子流動的鉛垂下方朝向鉛垂上方的方向在內的平面上投影了所述下部電極以及所述上部電極時，所述上部電極設置為相對于水平面的角度比所述下部電極相對于水平面的角度小。

6.一種微粒制造方法，

從反應室內的鉛垂下方朝向上方地從材料供給口供給材料粒子，所述反應室沿著鉛垂方向從下方朝向上方延伸，

向在比所述材料供給口更靠鉛垂上方的第1電極配置區域配置的多個下部電極施加交流電力來產生電弧放電，從而在所述反應室內產生等離子體，由所述材料粒子的至少一部分生成微粒，

向在比所述第1電極配置區域更靠鉛垂上方的第2電極配置區域配置的多個上部電極施加交流電力來產生電弧放電，從而在所述反應室內產生等離子體，由所述材料粒子的至少一部分生成微粒，

在比所述第2電極配置區域更靠鉛垂上方，對所述微粒進行回收，

將向所述下部電極施加的交流電力的頻率設定為在向所述上部電極施加的交流電力的頻率以上的頻率，

至少使向所述下部電極施加的交流電力的頻率比作為商用頻率的60Hz高。