[發(fā)明專利]一種基于反溶液浴的鈣鈦礦薄膜制備方法及太陽(yáng)能電池有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910082871.5 | 申請(qǐng)日: | 2019-01-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109904318B | 公開(公告)日: | 2021-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱瑞;張翼飛;涂用廣;楊曉宇;龔旗煌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L51/42 | 分類號(hào): | H01L51/42;H01L51/48 |
| 代理公司: | 北京萬(wàn)象新悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11360 | 代理人: | 李稚婷 |
| 地址: | 100871*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 溶液 鈣鈦礦 薄膜 制備 方法 太陽(yáng)能電池 | ||
1.一種鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,包括透明襯底,以及在該襯底上依次層疊的透明電極、金屬氧化物傳輸層、鈣鈦礦薄膜、空穴或電子傳輸層和頂電極,其特征在于,所述鈣鈦礦薄膜由反溶液浴法制備:將鈣鈦礦前驅(qū)膜浸泡于反溶液中一定時(shí)間,使鈣鈦礦層初步結(jié)晶和生長(zhǎng),然后除去表面多余的反溶液,于80~200℃退火處理,得到鈣鈦礦薄膜;其中所述反溶液為含有溶質(zhì)的反溶劑,所述溶質(zhì)是下列物質(zhì)中的一種或多種:含氮有機(jī)小分子、聚合物、納米顆粒。
2.如權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述反溶劑是指難以溶解鈣鈦礦且不與之反應(yīng)的溶劑,所述溶質(zhì)是溶解或分散在反溶劑中的物質(zhì)。
3.如權(quán)利要求2所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述反溶劑是低極性溶劑,選自下列溶劑中的一種或多種:異丙醇、叔丁醇、仲戊醇、仲己醇、苯甲醚、甲苯、氯苯。
4.如權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述含氮有機(jī)小分子為噻唑、吡嗪、咔唑和/或鹵化胺鹽。
5.如權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述溶質(zhì)選自下列物質(zhì)中的一種或多種:噻唑、吡嗪、咔唑、甲胺氫鹵酸鹽、甲脒氫鹵酸鹽、胍氫鹵酸鹽、聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮、納米顆粒。
6.如權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述鈣鈦礦薄膜通過(guò)下述方法制備:在惰性氣氛下,將鈣鈦礦前驅(qū)膜浸泡在反溶液中1~100s,使鈣鈦礦層初步結(jié)晶和生長(zhǎng)后除去表面多余的反溶液,轉(zhuǎn)移至加熱臺(tái)80~200℃退火處理。
7.如權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述鈣鈦礦太陽(yáng)能電池為介孔型鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其中金屬氧化物傳輸層包括金屬氧化物致密層和金屬氧化物介孔層;或者,所述鈣鈦礦太陽(yáng)能電池為平面型鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其中金屬氧化物傳輸層為金屬氧化物致密層。
8.如權(quán)利要求7所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述金屬氧化物致密層的材料選自氧化鈦、氧化鋅、氧化錫、氧化鎳、氧化鎂、氧化銅、氧化亞銅和氧化鎢中的任意一種,所述金屬氧化物介孔層由TiO2漿料燒結(jié)制得。
9.如權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述的鈣鈦礦薄膜為化學(xué)通式為ABX3的材料,其中A為CH3NH3+、NH2=CHNH2+、C4H9NH3+、K+、Rb+、Cs+中的任意一種或多種的混合;B選自Pb2+,Sn2+、Ge2+、Sb3+、Bi3+、Ag+、Au3+、Ti4+中的至少一種;X為Cl-、Br-、I-和類鹵素離子中的任意一種或多種的混合。
10.權(quán)利要求1~9任一所述鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的制備方法,包括以下步驟:
1)提供透明襯底及透明電極;
2)在透明電極上制備金屬氧化物傳輸層作為電子傳輸層或空穴傳輸層;
3)使用反溶液浴法,在金屬氧化物傳輸層上制備鈣鈦礦薄膜:先在金屬氧化物傳輸層上制備鈣鈦礦前驅(qū)膜,浸泡于反溶液中一定時(shí)間,使鈣鈦礦層初步結(jié)晶和生長(zhǎng),然后除去表面多余的反溶液,于80~200℃退火處理,得到鈣鈦礦薄膜;
4)在鈣鈦礦薄膜上制備空穴或電子傳輸層;
5)在空穴或電子傳輸層上制備頂電極。
11.如權(quán)利要求10所述的制備方法,其特征在于,步驟3)在惰性氣氛下,在金屬氧化物傳輸層上使用旋涂、刮涂、印刷或噴墨打印的方式制備鈣鈦礦前驅(qū)膜,浸泡于反溶液中1~100s,使鈣鈦礦層初步結(jié)晶和生長(zhǎng);隨后轉(zhuǎn)移至加熱臺(tái)80~200℃退火處理,得到平整致密、結(jié)晶良好的鈣鈦礦薄膜。
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