[發(fā)明專利]一種含銅離子和硝酸根的刻蝕液回收再利用方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910079674.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-01-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109868476B | 公開(公告)日: | 2021-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳旭;王梨;王小赫;賀明;古月圓;袁篤;宋瀟;唐文;吳小龍;李濤;安寧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湖北永紹科技股份有限公司;華中科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23F1/46 | 分類號(hào): | C23F1/46;C25C1/12;C25C5/02 |
| 代理公司: | 華中科技大學(xué)專利中心 42201 | 代理人: | 孫楊柳;曹葆青 |
| 地址: | 433122 湖*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 離子 硝酸 刻蝕 回收 再利用 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種含銅離子和硝酸根的刻蝕液回收再利用方法,屬于刻蝕液回收技術(shù)領(lǐng)域。刻蝕液經(jīng)過電滲析裝置得到高濃度含銅溶液和低濃度含銅溶液,高濃度的含銅溶液進(jìn)入提銅槽循環(huán)電解,使銅離子還原生成銅單質(zhì)并沉積在作為陰極的銅電極上,將該陰極作為精煉槽中的陽極,使精煉槽中的陽極溶出至陰極上,得到銅板;將提銅槽中得到的銅離子濃度低的電解液和電滲析裝置中產(chǎn)生的低濃度含銅溶液進(jìn)行旋流電解,得到銅管和/或銅粉;向清液添加濃硝酸,形成刻蝕液回用。若該刻蝕液中含有鎳離子,電解完成后添加堿液調(diào)節(jié)pH,使鎳離子沉淀下來。本發(fā)明回收的銅經(jīng)濟(jì)價(jià)值高,且不投放藥劑,不會(huì)造成二次污染;刻蝕液進(jìn)行再生回用,使資源最大化利用。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于刻蝕液回收技術(shù)領(lǐng)域,更具體地,涉及一種含銅離子和硝酸根的刻蝕液回收再利用方法。
背景技術(shù)
含銅廢硝酸刻蝕液是在電子工業(yè)產(chǎn)生的廢水,在印刷電路板的退鍍或清洗廢水過程中,會(huì)產(chǎn)生此類含銅廢硝酸刻蝕液,有時(shí)也會(huì)含有少量鎳金屬。隨著印刷電路板產(chǎn)量日益增大,含銅廢硝酸刻蝕液愈來愈多,廢液中的銅離子或鎳離子含量都大大超過國(guó)家規(guī)定的污水排放標(biāo)準(zhǔn),若直接排放,對(duì)環(huán)境會(huì)產(chǎn)生巨大的污染,且銅、鎳離子都有一定回收價(jià)值。因此必須采取措施處理含銅廢水。
現(xiàn)有技術(shù)中關(guān)于直接處理含銅廢硝酸刻蝕液的工藝主要有離子交換法和化學(xué)沉淀等方法,化學(xué)沉淀法是將刻蝕液中投加燒堿、石灰或硫化物使銅沉淀,但化學(xué)沉淀法投加藥劑量大,產(chǎn)品純度不高;離子交換法是利用離子交換樹脂將銅離子從廢水中分離出來,但產(chǎn)生的洗脫液需要進(jìn)行再處理,不然會(huì)產(chǎn)生二次污染。這兩種技術(shù)只是進(jìn)行廢水處理,廢水處理達(dá)標(biāo)后進(jìn)行排放,且產(chǎn)品沒有生產(chǎn)銅板的經(jīng)濟(jì)價(jià)值高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中含銅離子和硝酸根的刻蝕液回收過程中銅不能得到大面積的銅塊,且刻蝕液沒有回收利用的技術(shù)問題。
按照本發(fā)明的第一方面,提供了一種含銅離子和硝酸根的刻蝕液回收再利用方法,含有以下步驟:
(1)將含銅離子和硝酸根的刻蝕液經(jīng)電滲析裝置進(jìn)行分離,得到溶液A和溶液B,所述溶液A中的銅離子濃度大于溶液B中的銅離子濃度;
(2)將步驟(1)中的溶液A作為電解液置于提銅槽中進(jìn)行循環(huán)電解,使溶液A中的銅離子大部分被還原生成銅單質(zhì)并沉積在陰極上,得到表面粗糙的銅板;所述循環(huán)電解的陽極為惰性陽極,陰極為銅電極;
(3)將步驟(2)中沉積了銅單質(zhì)的陰極作為精煉槽中的陽極,利用陽極溶出原理,使精煉槽中的陽極溶出至陰極上,得到表面光滑且緊密的銅板;
(4)將步驟(1)中的溶液B和步驟(2)中剩余的電解液混合后作為旋流電解的電解液,所述旋流電解的電解液中的銅離子被還原生成銅單質(zhì)并沉積在陰極上,得到銅管和/或銅粉;
(5)向步驟(4)中電解完成的電解液中加入濃硝酸,得到回用的刻蝕液。
優(yōu)選地,步驟(2)中所述循環(huán)電解的陽極為鈦基二氧化鉛,步驟(2)中所述循環(huán)電解的電流強(qiáng)度為15mA/cm2-40mA/cm2,步驟(2)中所述循環(huán)電解的循環(huán)速度是5L/min-25L/min。
優(yōu)選地,步驟(3)中所述精煉槽中的電流強(qiáng)度為5mA/cm2-15mA/cm2,步驟(3)中所述精煉槽中的陰極為不銹鋼電極,步驟(3)中所述精煉槽中的電解液為硫酸銅溶液。
優(yōu)選地,步驟(4)中所述旋流電解的的循環(huán)速度為60L/min-100L/min;步驟(4)中所述旋流電解的陽極為惰性電極,步驟(4)中所述旋流電解的陰極為不銹鋼電極。
優(yōu)選地,步驟(1)所述含銅離子和硝酸根的刻蝕液中銅離子濃度為20g/L-30g/L,步驟(1)中所述溶液A中的銅離子濃度為32g/L-60g/L,步驟(1)中所述溶液B中的銅離子濃度小于10g/L。
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