[發明專利]調節器和包括該調節器的化學機械拋光設備有效
| 申請號: | 201910079571.1 | 申請日: | 2019-01-28 |
| 公開(公告)號: | CN110605657B | 公開(公告)日: | 2023-05-16 |
| 發明(設計)人: | 李龍熙;韓昇澈;李羲寬;徐鐘輝 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | B24B37/00 | 分類號: | B24B37/00;B24B37/34 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 田野;尹淑梅 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 調節器 包括 化學 機械拋光 設備 | ||
提供了調節器和包括該調節器的化學機械拋光(CMP)設備。所述化學機械拋光設備(CMP)的調節器包括:調節部件,對拋光墊進行拋光;臂,使調節部件旋轉;以及柔性連接器,使調節部件與臂連接,柔性連接器是可移動的以使調節部件關于臂相對移動。
于2018年5月28日在韓國知識產權局(KIPO)提交的第10-2018-0060299號且名稱為“調節器和包括該調節器的化學機械拋光設備”的韓國專利申請通過引用而全部包含于此。
技術領域
示例實施例涉及一種調節器和一種包括該調節器的化學機械拋光設備。更具體地,示例實施例涉及一種被構造為對拋光墊進行拋光的調節器和包括該調節器的化學機械拋光設備。
背景技術
通常,可以使用化學機械拋光(CMP)設備來使半導體基底上的層平坦化。CMP設備可以包括:CMP單元,用于使用拋光墊來對所述層進行拋光;以及調節單元,用于使用調節盤來對所述拋光墊進行剖光。為了使拋光墊向調節單元傾斜,調節單元可以包括柔性連接單元。
發明內容
根據示例實施例,可以提供一種CMP設備的調節器。調節器可以包括:調節部件,對拋光墊進行拋光;臂,使調節部件旋轉;以及柔性連接器,使調節部件與臂連接,柔性連接器是可移動的以使調節部件關于臂相對移動。
根據示例實施例,可以提供一種CMP設備的調節器。調節器可以包括調節單元、臂單元、柔性連接單元和傳感器單元。調節單元可以被構造為對拋光墊進行拋光。臂單元可以被構造為使調節單元旋轉。柔性連接單元可以連接在調節單元與臂單元之間,以使調節單元關于臂單元相對移動。柔性連接單元可以在臂單元與調節單元之間形成氣囊。傳感器單元可以被構造為測量調節單元關于臂單元的傾斜角度。
根據示例實施例,可以提供一種CMP設備。CMP設備可以包括多個壓板、CMP單元和調節器。壓板可以被構造為容納拋光墊。CMP單元可以布置在壓板之上,以使用拋光墊對基底進行拋光。調節器可以包括調節單元、臂單元和柔性連接單元。調節單元可以被構造為拋光拋光墊。臂單元可以被構造為使調節單元旋轉。柔性連接單元可以連接在調節單元與臂單元之間,以使調節單元關于臂單元相對移動。
附圖說明
通過參照附圖詳細描述示例性實施例,特征對于本領域技術人員而言將變得明顯,在附圖中:
圖1示出了根據示例實施例的調節器的剖視圖;
圖2示出了圖1中的調節器的調節單元和柔性連接單元的內部結構的放大透視圖;
圖3示出了圖2中的柔性連接單元的透視圖;
圖4示出了圖3中的柔性連接單元的內部結構的透視圖;
圖5示出了圖1中的調節器的操作的剖視圖;
圖6示出了根據示例實施例的調節器的剖視圖;
圖7示出了圖6中的調節器的調節單元和柔性連接單元的內部結構的放大透視圖;
圖8示出了圖7中的柔性連接單元的透視圖;
圖9示出了圖8中的柔性連接單元的內部結構的透視圖;
圖10示出了圖6中的調節器的操作的剖視圖;
圖11示出了根據示例實施例的調節器的剖視圖;
圖12示出了圖11中的調節器的調節單元和柔性連接單元的內部結構的放大透視圖;
圖13示出了圖12中的柔性連接單元的透視圖;
圖14示出了圖13中的柔性連接單元的內部結構的透視圖;
圖15示出了圖11中的調節器的操作的剖視圖;
圖16示出了根據示例實施例的調節器的剖視圖;
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