[發明專利]電容式觸控裝置及其制作方法

有效

• 申請號: 201910078853.X
• 申請日: 2014-03-31
• 公開（公告）號: CN110045862B
• 公開（公告）日: 2023-05-23
• 發明（設計）人: 高國峯;黃松建;蔡宏育;呂正源
• 申請（專利權）人: 宸盛光電有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;G06F3/044
• 代理公司: 北京泰吉知識產權代理有限公司 11355
• 代理人: 張雅軍

一種電容式觸控裝置包含一個透明基板單元及至少一個圖案化透明導電膜層。該圖案化透明導電膜層形成于該透明基板單元上并具有一個透明絕緣層，及多個實質配置于該透明絕緣層中且彼此電性隔絕的感應線路，各感應線路是實質由多個不透明納米導體所制成。各感應線路是配置于折射率實質相同的透明絕緣層中，并借該透明絕緣層提供電性隔絕，能消除圖案化透明導電膜層的蝕刻線，同時省略光學匹配膜層以節省制作成本并使電容式觸控裝置達到薄化的功效。

本發明是“申請日為：2014-3-31、申請號為：201410126878.X和發明名稱為：電容式觸控裝置及其制作方法”的分案申請。

技術領域

本發明涉及一種觸控裝置(touch?device)，特別是涉及一種電容式觸控裝置及其制作方法。

背景技術

近年來，隨著觸控技術不斷地發展，觸控裝置已廣泛應用于諸如手機、個人數字助理(PDA)、游戲機輸入接口、電腦觸控屏等各種電子產品中。在實際應用中，觸控裝置通常與一平面顯示器(flat?panel?display，FPD)相結合形成觸控面板(touch?panel)，安裝于各式電子產品上，使用者通過觸控面板輸入數據和指令，取代了諸如鍵盤、鼠標等傳統輸入裝置，給使用者帶來極大的方便性。

一般而言，電容式觸控裝置的透明導電基板主要是由透明基板和圖案化(patterned)透明導電層所構成。前述透明導電基板的制法主要是在不具導電性的一透明基板上鍍上一透明導電層，其通常是采用透明金屬氧化物，如氧化銦錫(indium?tinoxide，簡稱ITO)等。后續，再對該透明導電層依序施予黃光制程(photolithographyprocess)與蝕刻制程以形成一具有預定圖案的透明導電層(如，形成以單向間隔排列或雙向交錯排列的電極圖案)，并做為電容式觸控裝置的感應電極層使用。前述電極圖案包括ITO區域(即電極區域)和蝕刻區域，蝕刻區域上無導電薄膜ITO，光線可直射至透明基板上。然而，由于兩個區域對光線的折射率(refractive?index)互不相同，使用者能清楚地觀察到ITO區域和蝕刻區域交接處的蝕刻線，此將嚴重地影響觸控面板的外觀視覺效果。

為改善前述問題，此技術領域的相關技術人員多半是采用光學匹配(indexmatch，IM)膜層來改善。參圖1，顯示有一種現有的降低圖案化ITO層蝕刻線明亮度的方法，其主要是先在一聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene?terephthalate，PET)膜11上沉積一個IM膜層12；進一步地，于該IM膜層12上沉積一個ITO層13；最后，對該ITO層13施予圖案化處理，從而形成一圖案化ITO層14；其中，該IM膜層12通常是由多個輪流堆疊的高折射率介電(dielectrics)層(如，Nb₂O₅)與低折射率介電層(如，SiO₂)所構成。前述IM膜層12雖然可以削減圖案化ITO層的蝕刻線明亮度；然而，此IM膜層12的總厚度甚高，不僅制作耗時，更提升制作成本。再者，此IM膜層12也對觸控面板的薄化造成了阻礙。

經上述說明可知，減低圖案化透明導電層的蝕刻線明亮度以提升觸控面板的顯示效果，同時節省電容式觸控裝置的制作成本并使電容式觸控裝置得以達到薄化，是此技術領域的相關技術人員所需改進的課題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種電容式觸控裝置。

本發明的另一目的，在于提供一種電容式觸控裝置的制作方法。

本發明電容式觸控裝置，包含一個透明基板單元，及至少一個圖案化透明導電膜層。該圖案化透明導電膜層形成于該透明基板單元上，并具有一個透明絕緣層，及多個實質配置于該透明絕緣層中且彼此電性隔絕的感應線路，各感應線路是實質由多個不透明納米導體所制成。

本發明所述的電容式觸控裝置，所述不透明納米導體的外觀形狀是球狀、長條狀，或碟狀。