[發明專利]激光退火裝置和方法、顯示面板及其制備裝置有效
| 申請號: | 201910074578.4 | 申請日: | 2019-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN109860034B | 公開(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發明(設計)人: | 李月 | 申請(專利權)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/268 | 分類號: | H01L21/268;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人: | 馬永芬 |
| 地址: | 065500 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光 退火 裝置 方法 顯示 面板 及其 制備 | ||
1.一種激光退火裝置,包括產生激光的激光系統,其特征在于,在所述激光系統發射激光的一側依次間隔設置有第一透鏡單元和第二透鏡單元,所述第一透鏡單元和所述第二透鏡單元一一對應設置,使得所述激光依次穿過所述第一透鏡單元和所述第二透鏡單元,達到被照射物表面的部分區域的光束重疊,在被照射物上形成可控的溫度梯度;第一透鏡單元包括具有若干第一凸起的第一鏡片,若干第一凸起均勻分布在第一鏡片上且朝向激光系統,第二透鏡單元包括具有若干第二凸起的第二鏡片,若干第二凸起均勻分布在第二鏡片上且背向第一鏡片,第一鏡片的凸起與第二鏡片的凸起位置相對應。
2.根據權利要求1所述的激光退火裝置,其特征在于,所述第一透鏡單元為匯聚透鏡,用于將穿過第一透鏡的激光匯集;所述第二透鏡為發散透鏡,用于將穿過第二透鏡的激光發散。
3.根據權利要求2所述的激光退火裝置,其特征在于,所述第一透鏡單元或所述第二透鏡單元為凹透鏡或凸透鏡。
4.根據權利要求3所述的激光退火裝置,其特征在于,所述第一透鏡單元或所述第二透鏡單元為全透鏡片。
5.一種激光退火方法,用于激光退火裝置,所述激光退火裝置包括激光系統,在所述激光系統發射激光的一側依次間隔設置有一一對應的第一透鏡單元和第二透鏡單元,第一透鏡單元包括具有若干第一凸起的第一鏡片,若干第一凸起均勻分布在第一鏡片上且朝向激光系統,第二透鏡單元包括具有若干第二凸起的第二鏡片,若干第二凸起均勻分布在第二鏡片上且背向第一鏡片,第一鏡片的凸起與第二鏡片的凸起位置相對應,其特征在于,該方法包括以下步驟:
調整第一透鏡單元與所述第二透鏡單元的距離,使得激光系統發出的激光透過第一透鏡單元匯集后,照射到第二透鏡單元內;
調整被照射物與所述第二透鏡單元的距離,使得透過第二透鏡單元的激光照射在被照射物上,部分區域激光光線重疊,形成可控的溫度梯度。
6.根據權利要求5所述的激光退火方法,其特征在于,所述激光系統發出的激光全部透過第一透鏡單元,匯集后全部照射到第二透鏡單元內,透過第二透鏡單元的全部激光照射在被照射層表面。
7.一種顯示面板制備裝置,其特征在于,包括:
可移動的載臺;
設置在所述載臺上的待制備多晶硅層;
權利要求1-4任一項所述的激光退火裝置,激光系統發出的激光經所述第一透鏡單元和所述第二透鏡單元后照射在所述多晶硅層的表面形成可控的溫度梯度。
8.一種由權利要求7所述的顯示面板制備裝置制備的顯示面板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





