[發(fā)明專利]一種背板鍍膜方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910074523.3
• 申請(qǐng)日: 2019-01-25
• 公開（公告）號(hào): CN109487208B
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周偉杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 信利光電股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/35;C23C14/10;C23C14/06
• 代理公司: 深圳市深佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44285
• 代理人: 王仲凱

1.一種背板鍍膜方法，其特征在于，包括：

在背板的非鍍膜區(qū)鍍?cè)O(shè)與所述背板的粘附力低于閾值的金屬層；

在所述背板正面鍍光學(xué)膜層；

去除所述非鍍膜區(qū)上方的金屬層以及光學(xué)膜層。

2.如權(quán)利要求1所述背板鍍膜方法，其特征在于，所述金屬層為鋁層或銦層。

3.如權(quán)利要求2所述背板鍍膜方法，其特征在于，所述金屬層的厚度為5nm~30nm。

4.如權(quán)利要求1所述背板鍍膜方法，其特征在于，所述去除所述非鍍膜區(qū)上方的金屬層以及光學(xué)膜層，包括：采用膠帶對(duì)所述非鍍膜區(qū)的所述光學(xué)膜層進(jìn)行粘附拉扯，去除所述非鍍膜區(qū)上方的金屬層以及光學(xué)膜層，或采用超聲波清洗去除所述非鍍膜區(qū)上方的金屬層以及光學(xué)膜層。

5.如權(quán)利要求1所述背板鍍膜方法，其特征在于，所述光學(xué)膜層為氧化硅、氮化硅、氧化鋁、氧化鈮、氧化鈦或氧化鋯。

6.如權(quán)利要求5所述背板鍍膜方法，其特征在于，所述光學(xué)膜層的厚度為100nm~500nm。

7.如權(quán)利要求1所述背板鍍膜方法，其特征在于，所述背板為玻璃背板或塑料背板。