[發明專利]一種掃頻光源及其制作方法

在審

• 申請號: 201910074468.8
• 申請日: 2019-01-25
• 公開（公告）號: CN109638644A
• 公開（公告）日: 2019-04-16
• 發明（設計）人: 付紅巖;謝啟浩;陳震旻
• 申請（專利權）人: 清華-伯克利深圳學院籌備辦公室
• 主分類號: H01S5/06
• 分類號: H01S5/06;H01S5/125
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種掃頻光源，包括透光區域和非透光區域，所述非透光區域圍繞所述透光區域，其特征在于，包括：

依次疊層設置的第一電極、第一襯底、第一分布式布拉格反射鏡、有源層和第二電極，所述第二電極位于所述非透光區域；

框架，位于所述第二電極遠離所述第一襯底一側，且位于所述第二電極遠離所述透光區域一側，所述框架圍繞所述第二電極一周；

懸臂梁結構，固定于所述框架上，所述懸臂梁結構包括同層設置且相互連接的支撐膜和至少兩個懸臂梁，所述支撐膜位于所述透光區域，所述懸臂梁位于所述非透光區域；

第二分布式布拉格反射鏡，固定于所述支撐膜上；

壓電結構，固定于所述懸臂梁上。

2.根據權利要求1所述的掃頻光源，其特征在于，所述第二分布式布拉格反射鏡以及所述壓電結構均位于所述懸臂梁結構遠離所述第一襯底一側。

3.根據權利要求1所述的掃頻光源，其特征在于，所述第二分布式布拉格反射鏡以及所述壓電結構均位于所述懸臂梁結構與所述第一襯底之間；

所述掃頻光源還包括與所述第一襯底對置的第二襯底，所述第二襯底包括第一凹槽和第二凹槽，所述第二凹槽位于第一凹槽鄰近所述第一襯底的一側，且所述第二凹槽的開口面積大于所述第一凹槽的開口面積，所述第一凹槽的側壁以及所述第二凹槽的側壁共同構成所述框架；所述第二襯底在所述透光區域設置有出光孔。

4.根據權利要求1所述的掃頻光源，其特征在于，所述框架的俯視形狀包括矩形，所述懸臂梁結構包括四個所述懸臂梁；

每個所述懸臂梁的一端與所述矩形的邊的中點相連接，每個所述懸臂梁的另一端與所述支撐膜相連接；或者，每個所述懸臂梁的一端與所述矩形的拐角相連接，每個所述懸臂梁的另一端與所述支撐膜相連接。

5.根據權利要求1所述的掃頻光源，其特征在于，所述壓電結構包括依次疊層設置的第三電極、壓電薄膜和第四電極。

6.根據權利要求1所述的掃頻光源，其特征在于，沿垂直所述第一襯底的方向，所述支撐膜以及所述懸臂梁的厚度均為L，其中，0.5μm≤L≤1μm。

7.一種掃頻光源的制作方法，所述掃頻光源包括透光區域和非透光區域，所述非透光區域圍繞所述透光區域，其特征在于，所述制作方法包括：

依次形成疊層設置的第一電極、第一襯底、第一分布式布拉格反射鏡、有源層和第二電極，所述第二電極位于所述非透光區域；

在所述非透光區域形成框架；

在所述框架一側形成與所述框架固定連接的懸臂梁結構，所述懸臂梁結構包括同層設置且相互連接的支撐膜和至少兩個懸臂梁，所述支撐膜位于所述透光區域，所述懸臂梁位于所述非透光區域；

在所述支撐膜上形成與所述支撐膜固定連接的第二分布式布拉格反射鏡，以及在所述懸臂梁上形成與所述懸臂梁固定連接的壓電結構。

8.根據權利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述第二分布式布拉格反射鏡以及所述壓電結構均位于所述懸臂梁結構遠離所述第一襯底一側；

所述制作方法包括：

依次形成疊層設置的第一電極、第一襯底、第一分布式布拉格反射鏡、有源層和第二電極，所述第二電極位于所述非透光區域；

在所述第二電極遠離所述第一襯底一側形成覆蓋所述透光區域和所述非透光區域的犧牲層；

在所述犧牲層遠離所述第一襯底一側形成覆蓋所述透光區域和所述非透光區域的懸臂梁結構材料層；

在所述懸臂梁結構材料層遠離所述第一襯底一側的所述非透光區域內形成壓電結構材料層；

在所述懸臂梁結構材料層遠離所述第一襯底一側的所述透光區域內形成第二分布式布拉格反射鏡；

去除所述非透光區域內的部分所述壓電結構材料層以形成所述壓電結構，去除所述非透光區域內的部分所述懸臂梁結構材料層以形成所述懸臂梁結構，去除所述非透光區域內的部分所述犧牲層，以形成所述框架。