[發(fā)明專利]電漿鍍膜裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910073881.2
• 申請(qǐng)日: 2019-01-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110846640A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-02-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐逸明;王立民
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 馗鼎奈米科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/513
• 分類號(hào): C23C16/513
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國(guó)

一種電漿鍍膜裝置。此電漿鍍膜裝置包含常壓電漿產(chǎn)生器以及至少一進(jìn)料治具。常壓電漿產(chǎn)生器包含管狀電極以及旋轉(zhuǎn)噴嘴。旋轉(zhuǎn)噴嘴設(shè)于管狀電極的底部。旋轉(zhuǎn)噴嘴具有電漿噴口以及外側(cè)面，且外側(cè)面的下部的外徑由管狀電極的底部往電漿噴口的方向漸縮。進(jìn)料治具設(shè)于旋轉(zhuǎn)噴嘴的外側(cè)面的外圍。進(jìn)料治具包含至少一前驅(qū)物噴口。進(jìn)料治具配置以經(jīng)由前驅(qū)物噴口朝旋轉(zhuǎn)噴嘴的外側(cè)面的下部噴射鍍膜前驅(qū)物。電漿噴口噴出電漿時(shí)會(huì)在電漿噴口附近形成低壓區(qū)，鍍膜前驅(qū)物被低壓區(qū)吸引而順著旋轉(zhuǎn)噴嘴的外側(cè)面的下部流至電漿噴口前來(lái)與電漿反應(yīng)。借此，可解決旋轉(zhuǎn)噴嘴及管狀電極內(nèi)部的鍍膜原料污染問(wèn)題，且可提升電漿的穩(wěn)定度、鍍膜作業(yè)的效率，進(jìn)而可提高鍍膜品質(zhì)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明是有關(guān)于一種電漿裝置，且特別是有關(guān)于一種電漿鍍膜裝置。

背景技術(shù)

大氣電漿的應(yīng)用非常廣泛，其可應(yīng)用在工件的表面處理、表面改質(zhì)、以及鍍膜上。特別是大氣電漿中的噴射式電漿(plasma jet)。由于噴射式電漿的電漿密度高，且處理效果好、處理成本低，因此目前噴射式電漿已有很多的工業(yè)應(yīng)用。

隨著大氣電漿技術(shù)的蓬勃發(fā)展，現(xiàn)已開(kāi)發(fā)出旋轉(zhuǎn)式的大氣電漿設(shè)備，來(lái)增加大氣電漿的處理面積、與降低被處理工件的溫度，借以大幅提升大氣電漿的處理速度，并提高大氣電漿對(duì)工件材料的適用范圍。

然而，目前市售的旋轉(zhuǎn)式大氣電漿設(shè)備只能使用空氣、氮?dú)獾妊趸詺怏w，若是要利用旋轉(zhuǎn)式大氣電漿設(shè)備來(lái)進(jìn)行沉積或鍍膜時(shí)便產(chǎn)生下列數(shù)個(gè)問(wèn)題。首先，利用旋轉(zhuǎn)式大氣電漿設(shè)備來(lái)進(jìn)行沉積或鍍膜時(shí)，需提供沉積或鍍膜的原料，但沉積或鍍膜原料若跟著空氣或氮?dú)獾裙ぷ鳉怏w一起進(jìn)入電漿設(shè)備的內(nèi)部時(shí)，容易在電漿設(shè)備的內(nèi)部產(chǎn)生反應(yīng)，而沉積或鍍覆在電漿設(shè)備內(nèi)，如此會(huì)造成電漿裝置所產(chǎn)生的電漿不穩(wěn)，也可能使電漿與沉積或鍍膜原料提早反應(yīng)而在電漿設(shè)備中就產(chǎn)生電漿聚合粉末，進(jìn)而影響電漿鍍膜的效率與品質(zhì)。其次，為了改善前述問(wèn)題，一些大氣電漿技術(shù)是在電漿噴出口附近才加入沉積或鍍膜原料。雖然這樣的調(diào)整雖可確實(shí)解決此問(wèn)題，但也因此使得大氣電漿設(shè)備的噴嘴的旋轉(zhuǎn)無(wú)法順利運(yùn)行，而使電漿處理面積受到局限。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明的一目的就是在提供一種電漿鍍膜裝置，其進(jìn)料治具設(shè)于旋轉(zhuǎn)噴嘴的外圍，借此不僅可提供旋轉(zhuǎn)電漿來(lái)進(jìn)行大面積鍍膜，并可降低被處理工件在鍍膜時(shí)的溫度，更可解決旋轉(zhuǎn)噴嘴及其上的管狀電極內(nèi)部的鍍膜原料污染問(wèn)題，而可提升電漿的穩(wěn)定度，進(jìn)而可有效率地進(jìn)行鍍膜作業(yè)，提高鍍膜品質(zhì)。

根據(jù)本發(fā)明的上述目的，提出一種電漿鍍膜裝置。此電漿鍍膜裝置包含常壓電漿產(chǎn)生器以及至少一進(jìn)料治具。常壓電漿產(chǎn)生器配置以產(chǎn)生電漿。常壓電漿產(chǎn)生器包含管狀電極以及旋轉(zhuǎn)噴嘴。旋轉(zhuǎn)噴嘴設(shè)于管狀電極的底部。旋轉(zhuǎn)噴嘴配置以在旋轉(zhuǎn)狀態(tài)下噴射電漿。旋轉(zhuǎn)噴嘴具有電漿噴口以及外側(cè)面，且外側(cè)面的下部的外徑由管狀電極的底部往電漿噴口的方向漸縮。至少一進(jìn)料治具設(shè)于旋轉(zhuǎn)噴嘴的外側(cè)面的外圍，其中此至少一進(jìn)料治具包含至少一前驅(qū)物噴口。此至少一進(jìn)料治具配置以經(jīng)由至少一前驅(qū)物噴口朝旋轉(zhuǎn)噴嘴的外側(cè)面的下部噴射鍍膜前驅(qū)物。電漿噴口噴出電漿時(shí)會(huì)在電漿噴口附近形成低壓區(qū)，鍍膜前驅(qū)物被低壓區(qū)吸引而順著旋轉(zhuǎn)噴嘴的外側(cè)面的下部流至電漿噴口前來(lái)與電漿反應(yīng)。

依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，上述的至少一進(jìn)料治具的至少一前驅(qū)物噴口正對(duì)旋轉(zhuǎn)噴嘴的外側(cè)面的下部。

依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，上述的至少一進(jìn)料治具包含環(huán)狀接合部以及環(huán)狀延伸部。環(huán)狀接合部圍設(shè)于管狀電極及/或旋轉(zhuǎn)噴嘴外，其中環(huán)狀接合部并未與旋轉(zhuǎn)噴嘴接觸。環(huán)狀延伸部自環(huán)狀接合部的底部向下延伸，其中至少一前驅(qū)物噴口設(shè)于環(huán)狀延伸部中。

依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，上述的環(huán)狀延伸部具有環(huán)狀流道，此環(huán)狀流道與至少一前驅(qū)物噴口連通。

依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，上述的環(huán)狀延伸部的底面高于旋轉(zhuǎn)噴嘴的電漿噴口，且環(huán)狀延伸部的底面與旋轉(zhuǎn)噴嘴的電漿噴口的高度差等于或小于約2厘米。