[發明專利]真空室氣體引入系統

在審

• 申請號: 201910072353.5
• 申請日: 2019-01-25
• 公開（公告）號: CN111076087A
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發明（設計）人: 鄧曾紅
• 申請（專利權）人: 東泰高科裝備科技有限公司
• 主分類號: F17D1/02
• 分類號: F17D1/02
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;吳歡燕

本發明涉及真空室氣體引入技術領域，公開了一種真空室氣體引入系統，包括真空室側壁、封蓋和轉接機構，所述轉接機構包括轉接本體，所述轉接本體內部設有變向通道，所述變向通道的第一端口與所述真空室側壁密封連接，所述變向通道的第二端口與所述封蓋的內側壁密封連接，所述第一端口與設置在所述真空室側壁外側的外部引入接頭對接，所述第二端口與設置在所述封蓋外側的外部引出接頭對接，所述外部引出接頭與轉接管路的一端連接，所述轉接管路的另一端與所述腔體連通。簡化了維護流程，縮短了維護時間，減小了維護工作量，提高維護效率，降低了氣路泄露風險，同時可以實現多路氣體的并行引入。

技術領域

本發明涉及真空室氣體引入技術領域，特別是涉及一種真空室氣體引入系統。

背景技術

現有的真空室系統中，很多系統要求從真空室上蓋引入氣體(工藝氣體或保護氣體等)，大多都是直接從特氣柜或者廠務端直接連接氣體管路到真空室的上蓋，然后從上蓋引入到真空室內部。

日常的設備維護中，經常需要打開上蓋，開蓋之前就需要斷開氣體管路、水路和電纜等。水路是快插接頭，電纜也是插頭，不需要特殊的操作，而氣體管路再次連接后需要對整個管路檢漏，工作繁瑣而且費時費力。

發明內容

(一)要解決的技術問題

本發明的目的是提供一種真空室氣體引入系統，以解決現有真空室維護中，需要對氣體管路檢漏，工作繁瑣，效率低的問題。

(二)技術方案

為了解決上述技術問題，本發明提供一種真空室氣體引入系統，包括真空室側壁、封蓋和轉接機構，所述真空室側壁圍成腔體，所述封蓋與所述真空室側壁蓋設適配，所述轉接機構密封安裝在所述真空室側壁內側；所述轉接機構包括轉接本體，所述轉接本體內部設有變向通道，所述變向通道的第一端口與所述真空室側壁密封連接，所述變向通道的第二端口與所述封蓋的內側壁密封連接，所述第一端口與設置在所述真空室側壁外側的外部引入接頭對接，所述第二端口與設置在所述封蓋外側的外部引出接頭對接，所述外部引出接頭與轉接管路的一端連接，所述轉接管路的另一端與所述腔體連通。

其中，所述變向通道為直角變向通道，包括垂直連通的第一通道和第二通道，所述第一通道與所述真空室側壁垂直，所述第二通道與所述封蓋垂直。

其中，所述第一通道的第一端口的外周面設有內密封圈和外密封圈，所述內密封圈設置在所述外密封圈的內側。

其中，所述真空室側壁設有通孔，所述通孔的中軸線與所述第一通道的中軸線重合，所述外部引入接頭通過所述通孔與所述第一通道導通。

其中，所述第二通道內設有轉接頭，所述轉接頭設有環形凸臺，所述第二通道內靠近所述第二端口處設有與所述環形凸臺安裝適配的限位臺。

其中，所述環形凸臺與所述限位臺之間設有第一密封圈和密封墊，所述轉接頭的上端面設有第二密封圈，自然狀態下所述轉接頭的上端面高于所述真空室側壁的上端面，使所述第二密封圈與所述封蓋自重下壓密封適配。

其中，所述第二端口外側蓋設密封壓蓋，所述密封壓蓋設有穿孔，所述穿孔的直徑與所述轉接頭的直徑相同，所述轉接頭可在所述穿孔內上下移動。

其中，所述密封壓蓋通過固定螺釘固定在所述轉接本體上。

其中，所述轉接本體通過安裝螺釘安裝在所述真空室側壁內側。

其中，所述封蓋的內側設有布氣板，所述轉接管路通過外部引入密封接頭與所述布氣板連接。

(三)有益效果