[發(fā)明專利]一種常溫制備石墨烯柔性電極的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910071882.3 | 申請(qǐng)日: | 2019-01-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109748264A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-05-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李卓;黃宇嫣 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 復(fù)旦大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C01B32/184 | 分類號(hào): | C01B32/184;C01B32/194;C23C14/04;C23C14/34;C23C14/14 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 31200 | 代理人: | 張磊 |
| 地址: | 200433 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 石墨烯 柔性電極 濺射 薄膜 石墨烯薄膜 常溫制備 厚度可控 還原材料 基底 粘貼 氧化石墨烯 磁控濺射 電極薄膜 電極圖案 電極形狀 原位還原 平整度 膠帶 靶材 掩膜 還原 切割 平整 圖案 保證 | ||
1.一種常溫制備石墨烯柔性電極的方法,其特征在于具體步驟如下:
(1)清洗基底和玻璃容器,即先用丙酮充分清洗基底以及玻璃容器,再將基底以及玻璃容器分別放入去離子水中,通過(guò)超聲充分清洗,除去他們表面的雜質(zhì)和無(wú)機(jī)污染物,然后基底和玻璃容器分別用氮?dú)獯蹈桑?/p>
(2)取分散均勻的濃度為0.1~5 mg/mL的氧化石墨烯溶液加入到步驟(1)得到的玻璃容器中;
(3)將所需電極形狀的鏤空掩膜貼到步驟(1)所得基底上;
(4)由于一些金屬和基底之間的連接性較差,因此為了保證還原得到的石墨烯薄膜的完整性,采用濺射方法先在基底上形成一層粘結(jié)層,然后再在其上濺射還原氧化石墨烯所用的材料;
(5)步驟(4)濺射完成之后,迅速將其放入步驟(2)配制好的氧化石墨烯溶液中,在50~100℃熱臺(tái)上反應(yīng)1~3 h,得到在基底表面生長(zhǎng)的石墨烯電極;
(6)將步驟(5)反應(yīng)完成的在基底表面生長(zhǎng)的石墨烯電極從氧化石墨烯中取出,用去離子水對(duì)生長(zhǎng)的石墨烯電極清洗若干遍,再把在基底表面生長(zhǎng)的石墨烯電極浸沒(méi)在極稀的鹽酸中10~30 min;
(7)將步驟(6)得到的產(chǎn)物用去離子水清洗若干遍,除去在基底表面生長(zhǎng)的石墨烯電極表面粘附的極稀的鹽酸,放到50~80℃熱臺(tái)上干燥10~30 min,即可得到圖案化的石墨烯電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫制備石墨烯柔性電極的方法,其特征在于步驟(2)中所述氧化石墨烯的粒徑為1~15 μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫制備石墨烯柔性電極的方法,其特征在于步驟(1)中所用的玻璃容器為100~250 mL。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫制備石墨烯柔性電極的方法,其特征在于步驟(1)中所用的基底為硅片或玻璃板等各種擁有平整平面的材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫制備石墨烯柔性電極的方法,其特征在于步驟(4)中所用的粘結(jié)層包括:鉻或鈦中任一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫制備石墨烯柔性電極的方法,其特征在于步驟(4)中制備還原氧化石墨烯所用的材料包括:銅、鐵或鎳等高純度的金屬和其他具有還原性的材料中任一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫制備石墨烯柔性電極的方法,其特征在于步驟(6)中所述極稀的鹽酸,其濃度為1.0×10-9~1.0×10-4 mol/L。
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