[發明專利]玻璃制品及用于制造玻璃制品的方法

有效

• 申請號: 201910071631.5
• 申請日: 2019-01-25
• 公開（公告）號: CN110156337B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 李會官;金性勳;金勝鎬;柳淑敬;柳安娜;李政錫
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00;C03C21/00
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 王達佐;劉錚

1.用于制造玻璃制品的方法，所述方法包括：

制備待加工的玻璃，所述玻璃包括玻璃塊體和布置在所述玻璃塊體上的低折射表面層，其中，所述玻璃塊體具有一壓縮深度且具有恒定的折射率；以及

蝕刻掉所述低折射表面層以形成經蝕刻的玻璃，

其中，所述蝕刻掉所述低折射表面層包括：

用酸溶液清洗所述低折射表面層；以及

在用所述酸溶液清洗所述低折射表面層之后，用堿溶液清洗所述低折射表面層。

2.如權利要求1所述的方法，其中，用所述酸溶液的所述清洗使用包含2wt％與5wt％之間的量的硝酸的酸溶液進行0.5至5分鐘，以及

其中，用所述堿溶液的所述清洗使用包含2wt％與5wt％之間的量的氫氧化鈉的堿溶液進行0.5至5分鐘。

3.如權利要求2所述的方法，其中，所述低折射表面層在用所述酸溶液的所述清洗期間沒有去除，并且在用所述堿溶液的所述清洗期間被去除。

4.如權利要求1所述的方法，其中，所述玻璃的所述低折射表面層的厚度在100nm至500nm的范圍內。

5.如權利要求4所述的方法，其中，所述蝕刻掉所述低折射表面層以形成經蝕刻的玻璃包括：完全去除所述低折射表面層。

6.如權利要求1所述的方法，其中，在所述蝕刻掉所述低折射表面層以形成經蝕刻的玻璃之后，所述低折射表面層的厚度小于100nm。

7.如權利要求1所述的方法，其中，所述低折射表面層的折射率小于所述玻璃塊體的折射率且大于空氣的折射率。

8.如權利要求1所述的方法，其中，所述玻璃包括布置成與所述玻璃的表面相鄰的壓縮區域和布置在所述玻璃的內部的拉伸區域，

其中，所述低折射表面層布置在所述壓縮區域中，以及

其中，所述低折射表面層的厚度小于所述壓縮區域的壓縮深度。

9.如權利要求8所述的方法，其中，所述經蝕刻的玻璃的最大壓縮應力小于所述玻璃的最大壓縮應力。

10.如權利要求9所述的方法，其中，所述玻璃的所述最大壓縮應力與所述經蝕刻的玻璃的所述最大壓縮應力之差在10MPa至100MP?a的范圍內。

11.如權利要求8所述的方法，其中，所述經蝕刻的玻璃的壓縮深度等于所述玻璃的所述壓縮深度。

12.如權利要求8所述的方法，其中，所述經蝕刻的玻璃的最大拉伸應力CT1滿足：

CT1≤-37.6*ln(t)+48.7

其中，CT1以MPa表示，并且t以mm表示所述經蝕刻的玻璃的所述厚度。

13.如權利要求12所述的方法，其中，所述玻璃的最大拉伸應力CT1'滿足：

CT1'-37.6*ln(t')+48.7

其中，CT1'以MPa表示，并且t'以mm表示所述玻璃的所述厚度。

14.如權利要求8所述的方法，其中，所述壓縮區域在所述低折射表面層的表面處具有最大壓縮應力。

15.用于制造玻璃制品的方法，所述方法包括：

制備待加工的玻璃，所述玻璃包括玻璃塊體和布置在所述玻璃塊體上的低折射表面層，其中，所述玻璃塊體具有一壓縮深度且具有恒定的折射率；以及

拋光所述玻璃的表面以形成經拋光的玻璃，

其中，所述拋光所述玻璃的所述表面包括：至少部分地去除所述低折射表面層。