[發明專利]制造氧化物膜的設備和方法及包括該氧化物膜的顯示設備

有效

• 申請號: 201910068162.1
• 申請日: 2019-01-24
• 公開（公告）號: CN110164753B
• 公開（公告）日: 2023-04-25
• 發明（設計）人: 樸在潤;樸宰鉉;樸琪勛;尹弼相
• 申請（專利權）人: 樂金顯示有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;H01L21/02;H01L27/12;H10K59/12
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

1.一種用于制造氧化物膜的設備，所述設備包括：

下部腔室，所述下部腔室包括反應空間；

基座，所述基座安裝在所述反應空間中以支撐基板；

腔室蓋，所述腔室蓋包括第一氣體注入口和一個或多個第二氣體注入口并且密封所述反應空間；

氣體分配模塊，所述氣體分配模塊安裝在所述腔室蓋中以面對所述基座并且連接至所述第一氣體注入口和所述一個或多個第二氣體注入口；

第一源容器模塊，所述第一源容器模塊連接至所述第一氣體注入口，用于提供具有第一蒸氣壓的第一源氣體；

第一載氣供應模塊，所述第一載氣供應模塊給所述第一源容器模塊供應第一載氣；

第二源容器模塊，所述第二源容器模塊連接至所述第一氣體注入口，用于提供具有與所述第一蒸氣壓不同的第二蒸氣壓的第二源氣體；

推動氣體供應模塊，所述推動氣體供應模塊給所述第二源容器模塊與所述第一氣體注入口之間的氣體通路供應推動氣體；

反應氣體供應模塊，所述反應氣體供應模塊給所述一個或多個第二氣體注入口供應反應氣體；和

吹掃氣體供應模塊，所述吹掃氣體供應模塊給所述第一氣體注入口供應吹掃氣體，

其中：

通過所述第一載氣控制供應至所述第一氣體注入口的所述第一源氣體的流速，并且

通過所述推動氣體控制供應至所述第一氣體注入口的所述第二源氣體的密度，并且

其中所述第二蒸氣壓高于所述第一蒸氣壓。

2.根據權利要求1所述的設備，其中：

所述第一蒸氣壓小于200Torr，并且

所述第二蒸氣壓等于或大于200Torr。

3.根據權利要求1所述的設備，進一步包括：

氣體注入管，所述氣體注入管連接至所述第一氣體注入口；和

源氣體管線，所述源氣體管線連接在所述氣體注入管與所述第一源容器模塊和所述第二源容器模塊中的每一個之間。

4.根據權利要求3所述的設備，其中：

所述源氣體管線包括：

第一支管，所述第一支管連接至所述氣體注入管；

第一源氣體供應管，所述第一源氣體供應管連接在所述第一支管與所述第一源容器模塊之間；和

第二源氣體供應管，所述第二源氣體供應管連接在所述第一支管與所述第二源容器模塊之間，并且

所述推動氣體供應模塊給所述第二源氣體供應管供應所述推動氣體。

5.根據權利要求4所述的設備，其中：

所述第一源容器模塊包括第一源容器，所述第一源容器包括被供應所述第一載氣的輸入口和連接至所述第一源氣體供應管的輸出口，并且所述第一源容器將第一有機材料蒸發為所述第一源氣體，并且

所述第一載氣供應模塊包括：

與所述第一源容器的所述輸入口連接的第一載氣供應管；

給所述第一載氣供應管供應所述第一載氣的第一載氣供應源；以及

安裝在所述第一載氣供應管中的第一流速控制構件。

6.根據權利要求4所述的設備，其中：

所述第二源容器模塊包括：

第二源容器，所述第二源容器包括連接至所述第二源氣體供應管的輸出口，并且所述第二源容器將第二有機材料蒸發為所述第二源氣體；和

第二流速控制構件，所述第二流速控制構件安裝在所述第二源容器的所述輸出口與所述第二源氣體供應管之間，并且

所述推動氣體供應模塊包括：

連接至所述第二源氣體供應管的推動氣體供應管；

給所述推動氣體供應管供應所述推動氣體的推動氣體供應源；和

安裝在所述推動氣體供應管中的第三流速控制構件。

7.根據權利要求6所述的設備，其中所述推動氣體供應管連接至比所述氣體注入管相對更靠近所述第二流速控制構件的部分。

8.根據權利要求1所述的設備，其中：

所述反應氣體包括氧氣(O₂)，并且

所述氣體分配模塊從所述反應氣體產生等離子體反應氣體并且將所述等離子體反應氣體分配至所述基板。