[發明專利]投影光學系統、曝光裝置以及物品的制造方法

有效

• 申請號: 201910065482.1
• 申請日: 2019-01-24
• 公開（公告）號: CN110095946B
• 公開（公告）日: 2022-03-25
• 發明（設計）人: 池本尚司
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B15/14;G02B17/06
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 孫蕾

1.一種投影光學系統，將來自物面的光按照第1平面鏡、第1凹面鏡、凸面鏡、第2凹面鏡、第2平面鏡的順序反射而成像于像面，其特征在于，所述投影光學系統具有：

第1光學系統，配置于所述物面與所述第1平面鏡之間，校正與被定義為鉛直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光學系統的倍率；以及

第2光學系統，配置于所述第2平面鏡與所述像面之間，校正與所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光學系統的倍率，

所述第1光學系統包括沿著所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第1透鏡以及第2透鏡，

所述第2光學系統包括沿著所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第3透鏡以及第4透鏡，

所述投影光學系統還具有：

第1旋轉部，使所述第1透鏡及所述第2透鏡的一方繞與所述第1方向平行的第1軸旋轉；

第2旋轉部，使所述第3透鏡及所述第4透鏡的一方繞與所述第1方向平行的第2軸旋轉；以及

控制部，控制所述第1旋轉部以及所述第2旋轉部，以使得校正通過利用所述第1光學系統以及所述第2光學系統校正所述投影光學系統的倍率而產生的所述投影光學系統的像散。

2.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于，

所述控制部控制所述第1旋轉部以及所述第2旋轉部，以使得抵消通過利用所述第1光學系統以及所述第2光學系統校正所述投影光學系統的倍率而產生的所述投影光學系統的像散。

3.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于，

所述控制部控制所述第1旋轉部以及所述第2旋轉部，以使得所述第1透鏡以及所述第2透鏡的一方和所述第3透鏡以及所述第4透鏡的一方同時旋轉。

4.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于，

所述控制部求出為了抵消通過利用所述第1光學系統以及所述第2光學系統將所述投影光學系統的倍率校正為目標值而產生的所述投影光學系統的像散而所需的、所述第1透鏡及所述第2透鏡的一方以及所述第3透鏡及所述第4透鏡的一方的各自的旋轉量，根據所述旋轉量控制所述第1旋轉部以及所述第2旋轉部。

5.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于，

所述像散包括從所述第2方向以及所述第3方向旋轉了45度的方向的像散。

6.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于，

所述第1軸和所述第2軸存在于同一直線上。

7.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于，還具有：

第3光學系統，該第3光學系統配置于所述物面與所述第1平面鏡之間或者所述第2平面鏡與所述像面之間，在所述第2方向以及所述第3方向上以同一倍率校正所述投影光學系統的倍率。

8.根據權利要求7所述的投影光學系統，其特征在于，

所述第1透鏡以及所述第2透鏡能夠變更所述第1方向上的間隔，

所述第3透鏡以及所述第4透鏡能夠變更所述第1方向上的間隔，

所述第3光學系統包括能夠變更所述第1方向上的間隔的平凸透鏡以及平凹透鏡，

所述投影光學系統還具有控制部，該控制部以使所述投影光學系統的倍率成為目標值、且使所述投影光學系統的像散成為目標值的方式，控制所述第1透鏡與所述第2透鏡在所述第1方向上的間隔、所述第3透鏡與所述第4透鏡在所述第1方向上的間隔、所述平凸透鏡與所述平凹透鏡在所述第1方向上的間隔、所述第1透鏡及所述第2透鏡的一方的旋轉角以及所述第3透鏡及所述第4透鏡的一方的旋轉角。

9.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于，

在所述物面以及所述像面是遠心的。

10.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于，

所述第1透鏡、所述第2透鏡、所述第3透鏡以及所述第4透鏡包括柱面透鏡或者復曲面透鏡。