[發明專利]一種用于電致變色玻璃的金屬靶材及其制備方法和應用方法有效
| 申請號: | 201910062099.0 | 申請日: | 2019-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN109825805B | 公開(公告)日: | 2020-11-06 |
| 發明(設計)人: | 楊懿;楊榮春 | 申請(專利權)人: | 上海博譯金屬有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/08;B22F3/14;B22F3/15;C03C17/34;G02F1/1524 |
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| 地址: | 201900 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 變色 玻璃 金屬 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種用于電致變色玻璃的金屬靶材,其特征在于,包括第一金屬靶材和第二金屬靶材,其中第一金屬靶材為金屬鎢、鉬、鈮或鈦中的一種;
第二金屬靶材包括質量比為1:0.2:0.2-0.26的鎳、鉻和氧化鋰。
2.根據權利要求1所述的用于電致變色玻璃的金屬靶材,其特征在于,所述第二金屬靶材包括質量比為1:0.2:0.26的鎳、鉻和氧化鋰。
3.根據權利要求1所述的用于電致變色玻璃的金屬靶材,其特征在于,所述鎳的粒徑均為20-40μm。
4.根據權利要求1所述的用于電致變色玻璃的金屬靶材,其特征在于,所述氧化鋰的平均粒徑為400nm。
5.一種根據權利要求1-4任一項所述的用于電致變色玻璃的金屬靶材的制備方法,其特征在于,所述第一金屬靶材的制備方法為:將金屬鎢、鉬、鈮或鈦中的一種采用熱壓或包套熱等靜壓方式制作成靶材;所述第二金屬靶材的制備方法為:將鎳、鉻和氧化鋰混合,充分攪拌22-26h,利用熱壓或熱等靜壓的方式制作成靶材。
6.根據權利要求5所述的用于電致變色玻璃的金屬靶材的制備方法,其特征在于,所述第一金屬靶材和第二金屬靶材制作時的熱壓溫度為800-1000℃,熱壓壓力為18-20MPa,保壓時間為30-40min。
7.根據權利要求5所述的用于電致變色玻璃的金屬靶材的制備方法,其特征在于,所述第一金屬靶材和第二金屬靶材制作時的包套熱等靜壓燒結溫度為800-1250℃,壓力為100-150MPa,保壓時間為1.5-2.5h。
8.一種根據權利要求1-4任一項所述的用于電致變色玻璃的金屬靶材的應用方法,其特征在于,第一金屬靶材的應用方法:以純度為4N或5N的氧氣和純度為4N或5N的氬氣按照氧氬比為1:1組成的混合氣為工作氣體,采用直流反應磁控濺射方式在第一透明導電層上,形成第一金屬氧化物薄膜;
第二金屬靶材的應用方法:將鎳、鉻和氧化鋰混合,充分攪拌22-26h,利用熱壓或熱等靜壓的方式制作成靶材,采用直流反應磁控濺射方式濺射在離子導體層上,形成第二金屬氧化物薄膜,并將第二金屬氧化物薄膜放在200-250℃大氣下烘烤10-15min,加熱源采用石英玻璃隔離遠紅外加熱。
9.根據權利要求8所述的用于電致變色玻璃的金屬靶材的應用方法,其特征在于,所述第一金屬氧化物薄膜的直流反應磁控濺射基本參數為:濺射電流為0.5-2.0A,濺射電壓為-200至-400V,靶基距為10-15cm,濺射壓強為1-1.5Pa,濺射功率密度為1-1.3W/cm2,本底真空度為5×10-3Pa。
10.根據權利要求8所述的用于電致變色玻璃的金屬靶材的應用方法,其特征在于,所述第二金屬氧化物薄膜的磁控濺射基本參數為:靶基距為10-13cm,濺射壓強為1-1.5Pa,濺射功率密度為1-1.3W/cm2,本底真空度為2.5×10-3Pa,工作氣體為氧氬比為1-80:1的氧氣和氬氣。
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