[發明專利]一種硬筆字實現方法、裝置、電子設備與存儲介質

在審

• 申請號: 201910059940.0
• 申請日: 2019-01-22
• 公開（公告）號: CN111353356A
• 公開（公告）日: 2020-06-30
• 發明（設計）人: 魏治平
• 申請（專利權）人: 鴻合科技股份有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 北京風雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 王剛

本發明公開了一種硬筆字實現方法、裝置、電子設備與存儲介質。所述硬筆字實現方法包括：接收書寫觸控指令，根據所述書寫觸控指令得到筆跡架構點信息；根據所述筆跡架構點信息，確定筆跡連接點信息；根據所述筆跡架構點信息與所述筆跡連接點信息，繪制硬筆字筆跡。所述硬筆字實現裝置包括：架構點模塊，連接點模塊，筆跡實現模塊。所述電子設備，包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序，所述處理器執行所述程序時實現所述硬筆字實現方法。所述存儲有計算機程序的計算機可讀存儲介質，所述計算機程序在由處理器執行時實現所述硬筆字實現方法。

技術領域

本發明涉及觸控技術領域，特別是指一種硬筆字實現方法、裝置、電子設備與存儲介質。

背景技術

目前我們在生活經常會遇見在觸屏書寫設備上書寫的場景，例如銀行工作中的電子手寫簽名、手機或平板電腦上的手寫輸入法寫字、學校或企業會議室大屏的電子白板書寫等。在這種情況下，所用到的觸屏書寫設備需要對輸入的硬筆字跡進行還原，顯示硬筆書寫效果。在現有的觸屏書寫設備中，硬筆書寫效果多采用貝塞爾曲線來實現，這種方式操作簡單且各種平臺都提供了畫貝塞爾曲線的函數，使用方便。但是，這種方法不支持實現可變寬的貝塞爾曲線，很難模擬手寫的真實硬筆字筆跡，即使我們在筆跡的起筆、轉折、結束等筆跡中特殊點處單獨加入筆鋒效果，與真實的硬筆筆跡相比依然具有較明顯的差別。

發明內容

有鑒于此，本發明的目的在于提出一種能夠模擬手寫的真實硬筆字筆跡的硬筆字實現方法、裝置、電子設備與存儲介質。

基于上述目的，本發明提供了一種硬筆字實現方法，包括：

接收書寫觸控指令，根據所述書寫觸控指令得到筆跡架構點信息；其中，所述筆跡架構點信息包括架構點坐標和架構點半徑；

根據所述筆跡架構點信息，確定筆跡連接點信息，所述筆跡連接點信息包括連接點坐標和連接點半徑；

根據所述筆跡架構點信息與所述筆跡連接點信息，繪制硬筆字筆跡。

可選的，所述接收書寫觸控指令，根據所述書寫觸控指令得到筆跡架構點信息，包括：

根據所述書寫觸控指令，得到筆跡觸控點信息，所述筆跡觸控點信息包括觸控點坐標與觸控點觸控時間；

根據所述觸控點坐標與所述觸控點觸控時間，求得觸控點移動速度，所述筆跡觸控點信息還包括所述觸控點移動速度；

根據所述觸控點移動速度，求得觸控點壓力值，所述筆跡觸控點信息還包括所述觸控點壓力值；

對所述筆跡觸控點信息進行濾波處理，得到觸控點濾波信息，所述觸控點濾波信息包括觸控點濾波坐標與觸控點濾波壓力值；

根據所述觸控點濾波壓力值，求得觸控點半徑；

根據所述觸控點濾波坐標與所述觸控點半徑，確定所述筆跡架構點信息，所述架構點坐標即為所述觸控點濾波坐標，所述架構點半徑即為所述觸控點半徑。

可選的，所述根據所述觸控點坐標與所述觸控點觸控時間，求得觸控點移動速度，包括：

根據當前筆跡觸控點的所述觸控點坐標與前一筆跡觸控點的所述觸控點坐標信，求得所述當前筆跡觸控點與所述前一筆跡觸控點的觸控點距離；

根據所述當前筆跡觸控點的所述觸控點觸控時間與所述前一筆跡觸控點的觸控點觸控時間，求得所述當前筆跡觸控點與所述前一筆跡觸控點的觸控時間差；

根據所述觸控點距離與所述觸控時間差，求得所述當前筆跡觸控點的觸控點移動速度。

可選的，所述根據所述觸控點移動速度，求得觸控點壓力值，包括：