[發(fā)明專利]機(jī)械手、半導(dǎo)體設(shè)備以及機(jī)械手工作狀態(tài)檢測(cè)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910058135.6 | 申請(qǐng)日: | 2019-01-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111452056A | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳路路 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | B25J11/00 | 分類號(hào): | B25J11/00;B25J9/16 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 機(jī)械手 半導(dǎo)體設(shè)備 以及 工作 狀態(tài) 檢測(cè) 方法 | ||
1.一種機(jī)械手,其特征在于,包括:力傳感器,用于檢測(cè)所述機(jī)械手的受力,基于所述機(jī)械手的受力而判斷所述機(jī)械手在傳輸和取放晶片的過程中是否出現(xiàn)異常。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械手,其特征在于,所述機(jī)械手包括手臂和設(shè)置在所述手臂一端的手指,所述力傳感器位于所述手指與所述手臂的連接處。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的機(jī)械手,其特征在于,所述力傳感器位于所述手指的背面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的機(jī)械手,其特征在于,還包括:與所述力傳感器連接的機(jī)械手控制器,所述機(jī)械手控制器用于在所述機(jī)械手傳輸晶片、取晶片后或放晶片時(shí),將所述受力與預(yù)設(shè)值進(jìn)行比較,以獲得偏差值,并根據(jù)所述偏差值判斷所述機(jī)械手是否傳輸和取放晶片異常。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的機(jī)械手,其特征在于,還包括:與所述力傳感器或所述機(jī)械手控制器連接的顯示器,所述顯示器用于實(shí)時(shí)顯示所述機(jī)械手的受力。
6.一種半導(dǎo)體設(shè)備,其包括片盒、反應(yīng)腔室和用于在所述反應(yīng)腔室與所述片盒之間傳輸晶片的機(jī)械手,其特征在于,所述機(jī)械手采用權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的機(jī)械手。
7.一種機(jī)械手工作狀態(tài)檢測(cè)方法,其特征在于,所述檢測(cè)方法采用權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的機(jī)械手,并通過檢測(cè)所述機(jī)械手的受力,基于所述機(jī)械手的受力而判斷所述機(jī)械手在傳輸和取放晶片的過程中是否出現(xiàn)異常。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的機(jī)械手工作狀態(tài)檢測(cè)方法,其特征在于,所述基于所述機(jī)械手的受力而判斷所述機(jī)械手在傳輸和取放晶片的過程中是否出現(xiàn)異常包括:
在所述機(jī)械手傳輸晶片、取晶片后或放晶片時(shí),將所述受力與預(yù)設(shè)值進(jìn)行比較,以獲得偏差值;
根據(jù)所述偏差值判斷所述機(jī)械手是否傳輸和取放晶片異常。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的機(jī)械手工作狀態(tài)檢測(cè)方法,其特征在,所述根據(jù)所述偏差值判斷所述機(jī)械手是否傳輸和取放晶片異常包括:
判斷所述偏差值是否超出預(yù)設(shè)范圍;若否,所述機(jī)械手傳輸和取放晶片正常;若是,則控制所述機(jī)械手停止工作。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的機(jī)械手工作狀態(tài)檢測(cè)方法,其特征在于,所述機(jī)械手工作狀態(tài)包括判斷是否取晶片成功,判斷是否取晶片成功的檢測(cè)方法包括以下步驟:
檢測(cè)所述機(jī)械手未取晶片時(shí),所述機(jī)械手的初始受力;
檢測(cè)所述機(jī)械手取晶片之后,所述機(jī)械手的當(dāng)前受力;
計(jì)算所述當(dāng)前受力與所述初始受力的差值,并判斷所述差值是否超出預(yù)設(shè)值,若是,則確定取晶片出現(xiàn)異常;若否,則確定所述機(jī)械手取晶片成功。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的機(jī)械手工作狀態(tài)檢測(cè)方法,其特征在于,所述機(jī)械手工作狀態(tài)包括判斷是否放晶片成功,判斷是否放晶片成功的檢測(cè)方法包括以下步驟:
檢測(cè)所述機(jī)械手未移入片盒時(shí),所述機(jī)械手的初始受力;
檢測(cè)所述機(jī)械手移入所述片盒,且所述晶片位于所述片盒中的片槽中時(shí),所述機(jī)械手的當(dāng)前受力;
計(jì)算所述當(dāng)前受力與所述初始受力的差值,并判斷所述差值是否超出預(yù)設(shè)值,若是,則確定放晶片出現(xiàn)異常;若否,則確定放晶片成功。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的機(jī)械手工作狀態(tài)檢測(cè)方法,其特征在于,所述機(jī)械手工作狀態(tài)包括判斷所述機(jī)械是否發(fā)生碰撞,判斷所述機(jī)械手是否發(fā)生碰撞包括以下步驟:
實(shí)時(shí)檢測(cè)在所述機(jī)械手運(yùn)輸晶片或者空載時(shí),所述機(jī)械手的當(dāng)前受力;
當(dāng)所述受力發(fā)生變化的時(shí),控制所述機(jī)械手停止工作。
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