[發明專利]一種漸變中性密度濾光片的制作方法有效
| 申請號： | 201910056530.0 | 申請日： | 2019-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN109500500B | 公開（公告）日： | 2020-11-20 |
| 發明（設計）人： | 馬軼男;趙帥鋒;張永喜;金秀;汪忠偉;楊亮;王宇楠;宋云鵬;諸海博;徐春風 | 申請（專利權）人： | 沈陽儀表科學研究院有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/20 | 分類號： | G02B5/20;B23K26/362;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京弘權知識產權代理事務所(普通合伙) 11363 | 代理人： | 逯長明;許偉群 |
| 地址： | 110000 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 漸變 中性 密度 濾光 制作方法 | ||
1.一種漸變中性密度濾光片的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：
1)根據目標漸變中性密度濾光片的技術要求，選擇滿足初始要求的固定中性密度濾光片作為基片；
2)將所述目標漸變中性密度濾光片與所述基片進行比較，計算獲得激光在所述基片表面的清洗圖案；
3)根據步驟2)中計算獲得的清洗圖案，控制激光器在所述基片表面進行激光加工作業；
所述步驟2)將所述目標漸變中性密度濾光片與所述基片進行比較，計算獲得激光在所述基片表面的清洗圖案，具體為：
I)根據目標漸變中性密度濾光片的透射率要求，計算獲得所述基片中關鍵節點位置對應的表面膜系去除量；
Ⅱ)根據目標漸變中性密度濾光片的具體光照信息，計算獲得所述基片在各相鄰關鍵節點間過渡區域的表面膜系去除量；
Ⅲ)根據步驟I)中計算獲得的關鍵節點位置對應的膜系去除量以及步驟Ⅱ)中計算獲得的各相鄰關鍵節點間過渡區域的膜系去除量，獲得所述基片的表面膜系去除量與旋轉角度之間的對應關系曲線；
Ⅳ)根據步驟Ⅲ)中獲得的表面膜系去除量與旋轉角度之間的對應關系曲線，計算獲得所述基片各位置對應的激光刻蝕線路、條數以及各激光刻蝕線路間搭接的情況，進而確定激光在所述基片表面的清洗圖案。
2.根據權利要求1所述漸變中性密度濾光片的制作方法，其特征在于，所述根據目標漸變中性密度濾光片的透射率要求，計算獲得所述基片中關鍵節點位置對應的表面膜系去除量中采用線性計算。
3.根據權利要求1所述漸變中性密度濾光片的制作方法，其特征在于，所述具體光照信息包括：光照位置以及光照尺寸。
4.根據權利要求1所述漸變中性密度濾光片的制作方法，其特征在于，所述根據目標漸變中性密度濾光片的具體光照信息，計算獲得所述基片在各相鄰關鍵節點間過渡區域的表面膜系去除量中采用線性計算。
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