[發明專利]方法、非易失性存儲器和控制設備

有效

• 申請號: 201910048590.8
• 申請日: 2019-01-18
• 公開（公告）號: CN110055510B
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 斯特芬·莫斯哈默
• 申請（專利權）人: 馮·阿登納資產股份有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C03C17/09;C03C17/34
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 王小衡;王朝輝

1.一種用于涂布的方法(100)，具有：

借助多個涂布過程在第一襯底(112)上形成(101)第一層堆疊，其中每個涂布過程形成第一層堆疊的至少一個層；

檢測(103)第一層堆疊的光譜；

通過使用模型確定(105)校正信息，其中，所述校正信息具有用于多種涂布過程中的多個涂布過程的多個校正分量，其中，所述多個涂布過程中的每個涂布過程關聯有所述多個校正分量中的恰好一個校正分量并且其中所述模型提供了在所述譜與期望譜的偏差和所述校正信息之間的雙射的映射函數；以及

通過使用所述校正信息改變(107)用于調節所述多種涂布過程中的至少一種涂布過程的至少一個調節參數；以及

借助所述多個涂布過程通過使用改變的調節參數在第一或第二襯底(112)上形成(109)第二層堆疊，其中每個涂布過程形成所述第二層堆疊的至少一個層。

2.根據權利要求1所述的方法(100)，其中，在調節時使用校正信息作為調節差。

3.根據權利要求1或2所述的方法(100)，其中，所述映射函數是多位的映射函數。

4.根據權利要求1或2所述的方法(100)，其中，所述映射函數是n位的映射函數；以及其中，所述譜與期望譜的偏差具有恰好n個分量，其中每個分量關聯有恰好一個波長。

5.根據權利要求1或2所述的方法(100)，其中，所述校正信息表示電功率的改變，借助所述電功率供給每個涂布過程。

6.根據權利要求1或2所述的方法(100)，其中，所述光譜具有多個子譜，所述子譜相互加權和/或彼此不同地加權。

7.根據權利要求1或2所述的方法(100)，其中，所述模型將所述譜與期望譜的偏差單射地映射到校正信息上。

8.根據權利要求1或2所述的方法(100)，其中，所述模型具有線性的方程組，其系數矩陣是非方形的矩陣。

9.根據權利要求1或2所述的方法，此外具有：

運輸所述第一襯底(112)和/或第二襯底(112)穿過多個涂布區域，其中在每個涂布區域中進行所述多個涂布過程中的恰好一個或多于一個的涂布過程。

10.根據權利要求1或2所述的方法(100)，其中，檢測(103)光譜具有：針對多個離散的波長檢測輻射度測量的變量。

11.根據權利要求10所述的方法(100)，其中，所述多個離散波長的數量大于所述多個涂布過程中的涂布過程的數量。

12.根據權利要求1或2所述的方法(100)，

其中，所述多種涂布過程中的每個涂布過程具有多個調節區域并且所述譜具有多個子譜，其中每個子譜關聯有所述至少一個涂布過程的調節區域，以及

其中，針對所述至少一個涂布過程中的每個調節區域，基于與所述調節區域關聯的子譜來確定所述至少一個調節參數來對調節區域進行調節。

13.根據權利要求1或2所述的方法(100)，其中，所述多個涂布過程具有多于六個的涂布過程。