[發明專利]薄膜太陽能電池堿金屬層的制備方法及鍍膜設備在審
| 申請號: | 201910048186.0 | 申請日: | 2019-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN111463294A | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發明(設計)人: | 辛科;楊立紅 | 申請(專利權)人: | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/18;C23C14/06;C23C14/18;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315 | 代理人: | 劉昕;南霆 |
| 地址: | 100176 北京市大興區北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜 太陽能電池 堿金屬 制備 方法 鍍膜 設備 | ||
1.一種薄膜太陽能電池堿金屬層的制備方法,所述薄膜太陽能電池包括依次層疊設置的襯底、背電極層、堿金屬層、吸收層,其特征在于,所述堿金屬層的制備方法包括:
對已形成有所述背電極層的襯底進行加熱,調節襯底的溫度達到預設沉積溫度閾值;以及
對堿金屬源進行加熱,調節所述堿金屬源的加熱功率達到預設功率閾值,或調節所述堿金屬源的沉積速率達到預設沉積速率閾值;
根據所述襯底的溫度以及所述堿金屬源的加熱功率或沉積速率,在形成所述吸收層之前于背電極層遠離襯底的表面沉積預設厚度的堿金屬層。
2.根據權利要求1所述的薄膜太陽能電池堿金屬層的制備方法,其特征在于,所述預設沉積速率閾值為0.05~0.8nm/s。
3.根據權利要求1所述的薄膜太陽能電池堿金屬層的制備方法,其特征在于,所述預設沉積速率閾值為0.1~0.5nm/s。
4.根據權利要求1所述的薄膜太陽能電池堿金屬層的制備方法,其特征在于,所述預設功率閾值為600~2000W。
5.根據權利要求1所述的薄膜太陽能電池堿金屬層的制備方法,其特征在于,所述預設功率閾值為900~1500W。
6.根據權利要求2或4所述的薄膜太陽能電池堿金屬層的制備方法,其特征在于,所述預設沉積溫度閾值為200~500℃,所述預設厚度為2~100nm。
7.根據權利要求3或5所述的薄膜太陽能電池堿金屬層的制備方法,其特征在于,所述預設沉積溫度閾值為300~480℃,所述預設厚度為10~50nm。
8.根據權利要求1~7任一項所述的薄膜太陽能電池堿金屬層的制備方法,其特征在于,在所述堿金屬源中填充固態的堿金屬化合物,將襯底加熱至達到預設沉積溫度閾值,并將固態的堿金屬化合物加熱至加熱功率達到預設功率閾值,或將固態的堿金屬化合物加熱至沉積速率達到預設沉積速率閾值,使固態的堿金屬化合物蒸發形成氣態的堿金屬陽離子和陰離子,并沉積在所述背電極層遠離襯底的表面上。
9.根據權利要求1~8所述的薄膜太陽能電池堿金屬層的制備方法,其特征在于:所述堿金屬源具有偶數排,偶數排堿金屬源設置于鍍膜腔室內,且沿著所述鍍膜腔室的幅長方向,所述偶數排堿金屬源對稱設置在所述鍍膜腔室的兩側。
10.根據權利要求9所述的薄膜太陽能電池堿金屬層的制備方法,其特征在于,所述堿金屬源的中心線與參考線之間的夾角為16~50°,所述參考線為垂直于所述鍍膜腔室的底部的直線。
11.一種采用如1~10任一項所述的制備方法制備薄膜太陽能電池堿金屬層的鍍膜設備,其特征在于,所述鍍膜設備包括堿金屬源、第一加熱器和第二加熱器;所述堿金屬源內填充有堿金屬化合物原料;
控制器用于控制所述第一加熱器加熱襯底,使襯底的溫度達到預設溫度閾值,控制所述第二加熱器加熱堿金屬源,使堿金屬源的加熱功率達到第一預設功率閾值或堿金屬源的沉積速率達到第一預設沉積速率閾值。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





