[發明專利]一種模擬蒸鍍的試驗裝置和試驗系統

有效

• 申請號: 201910041187.2
• 申請日: 2019-01-16
• 公開（公告）號: CN109655300B
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 姚陽;王志強;楊凡;代科;鄭小龍
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G01M99/00
• 分類號: G01M99/00;G05F7/00;C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

本發明涉及蒸鍍技術領域，尤其涉及一種模擬蒸鍍的試驗裝置和試驗系統。用以解決相關技術中通過經驗對磁板的吸附力進行調節使得對位不準確，以及通過蒸鍍試驗對磁板的吸附力進行調節浪費試驗基板，增加成本的問題。一種模擬蒸鍍的試驗裝置，包括：支撐結構，通過支撐結構依次支撐的金屬掩膜版和試驗基板，試驗基板的上方還設置有磁板，金屬掩膜版的下方設置有可移動發光組件，可移動發光組件用于模擬蒸鍍線源，在移動過程中將所發出的線光源透過金屬掩膜版上的開口照射到試驗基板上；試驗基板和所述磁板之間還設置有感光裝置，感光裝置用于對透過金屬掩膜版上的開口照射到試驗基板上形成的模擬圖案的位置進行采集。

技術領域

本發明涉及蒸鍍技術領域，尤其涉及一種模擬蒸鍍的試驗裝置和試驗系統。

背景技術

在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機發光二極管)顯示面板蒸鍍過程中，通過真空蒸鍍方式進行分子沉積，并通過金屬掩膜版在待蒸鍍基板上形成所需的圖案(Pattern)。

發明內容

本發明的主要目的在于，提供一種模擬蒸鍍的試驗裝置和試驗系統，用以解決相關技術中蒸鍍時通過經驗對磁板的吸附力進行調節使得對位不準確，以及通過蒸鍍試驗對磁板的吸附力進行調節浪費試驗基板，增加成本的問題。

為達到上述目的，本發明采用如下技術方案：

第一方面，本發明實施例提供一種模擬蒸鍍的試驗裝置，包括：支撐結構，通過所述支撐結構支撐的金屬掩膜版和試驗基板，所述試驗基板可透光，所述支撐結構支撐在所述金屬掩膜版和試驗基板的邊緣位置處；所述金屬掩膜版設置在所述試驗基板的下方，所述試驗基板的上方還設置有磁板，所述磁板用于對所述金屬掩膜版施加吸附力，以對所述試驗基板進行支撐；所述金屬掩膜版的下方設置有可移動發光組件，所述可移動發光組件用于模擬蒸鍍線源，在移動過程中將所發出的線光源透過所述金屬掩膜版上的開口照射到所述試驗基板上；所述試驗基板和所述磁板之間還設置有感光裝置，所述感光裝置用于對所述可移動發光組件在移動過程中將發出的線光源透過所述金屬掩膜版上的開口照射到試驗基板上形成的模擬圖案的位置進行采集。

可選的，所述磁板包括多塊電磁鐵，所述多塊電磁鐵分布在所述試驗基板上方的不同位置處；所述試驗裝置還包括電流調節裝置，所述電流調節裝置與所述多塊電磁鐵連接，所述電流調節裝置用于對通入每一塊所述電磁鐵的電流進行調節，以對所述磁板作用在所述金屬掩膜版上的吸附力進行調節。

可選的，所述金屬掩膜版包括框架和多個子掩膜版，所述框架相對于所述試驗基板固定，所述多個子掩膜版相對于所述框架的位置可調；所述試驗裝置還包括位置調節裝置，所述位置調節裝置與每個所述子掩膜版的兩端連接，用于對作用在每個所述子掩膜版上的拉伸力進行調節，并帶動每個所述子掩膜版沿其延伸方向以及與其延伸方向垂直的方向發生位移，對每個所述子掩膜版的位置進行調節。

可選的，所述支撐結構包括機臺和設置在所述機臺邊緣的立柱，所述金屬掩膜版和試驗基板支撐在所述立柱上，所述機臺包括一水平承載面，多個所述立柱的上端面所在的平面與所述水平承載面平行；所述可移動發光組件包括設置在所述水平承載面上的長條形殼體，以及設置在所述長條形殼體中的多個點光源，多個所述點光源沿所述長條形殼體的長度方向排列成長條形，所述長條形殼體上開設有與所述點光源一一對應的出光口，每個所述出光口的口徑和傾角與所述蒸鍍線源中的噴嘴的口徑和傾角一致；所述長條形殼體與所述水平承載面滑動連接，且所述長條形殼體的滑動方向與所述長條形殼體的長度方向垂直。

可選的，所述感光裝置為長條形CCD感光鏡頭；所述長條形CCD感光鏡頭的兩端分別與設置在所述試驗基板相對兩側的導軌滑動連接，所述長條形CCD感光鏡頭的掃描面積至少覆蓋所述試驗基板所在區域的面積。

可選的，還包括下垂檢測模塊，所述下垂檢測模塊用于對所述試驗基板的下垂量進行檢測。