[發(fā)明專利]一種實(shí)時(shí)測量微液滴/氣泡在通道中運(yùn)動時(shí)流阻的裝置和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910033544.0 | 申請日: | 2019-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN109682574B | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 逄燕;周強(qiáng);劉趙淼;王翔;王颶 | 申請(專利權(quán))人: | 北京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | G01M10/00 | 分類號: | G01M10/00 |
| 代理公司: | 北京思海天達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11203 | 代理人: | 沈波 |
| 地址: | 100124 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 實(shí)時(shí) 測量 微液滴 氣泡 通道 運(yùn)動 時(shí)流阻 裝置 方法 | ||
1.一種實(shí)時(shí)測量微液滴/氣泡在通道中運(yùn)動時(shí)流阻的方法,實(shí)現(xiàn)該方法的裝置采用光刻硅片為模板,PDMS澆筑、鍵合形成;裝置上半部分包含微液滴/氣泡生成通道、壓力對比通道和壓力測試口,下半部分為待測通道和對比直通道,出口處連接大氣;
待測通道能夠根據(jù)所需要測量流阻的通道個(gè)性化設(shè)計(jì),現(xiàn)采用待測通道為直通道;右側(cè)為液滴/氣泡生成通道,液滴/氣泡分散相流體從入口2流入,未染色的連續(xù)相由入口1流入;左側(cè)為壓力對比通道,染色連續(xù)相從入口3流入;中間為壓力對比測試口,入口3和入口1流入的連續(xù)相在此處交匯形成交界面;右下側(cè)為待測直通道;下端為出口4,流體均由出口4流出;入口3連續(xù)相和入口1連續(xù)相采用相同流體,為使在壓力測試口處形成交界面,對比通道流體根據(jù)流體的性質(zhì)采用適宜染色劑染色;交界面上移說明上半部分流阻相對減小,反之則相對增大;
其特征在于:
交界面的位移能實(shí)時(shí)的反應(yīng)流阻的變化,對實(shí)時(shí)流阻的變化值進(jìn)行推導(dǎo)計(jì)算:
壓力對比通道采用規(guī)則截面的直通道,即左側(cè)通道的流動阻力Rl用理論公式計(jì)算得到;先調(diào)節(jié)不引入分散相流體時(shí),染色和未染色連續(xù)相液體在測壓口處的界面,使界面保持在測壓口的中間位置,即左右兩通道內(nèi)的液體不會通過測壓口流到對面通道;此時(shí),左側(cè)通道的總流量Ql即為從入口3流入的染色液體的流量Q3,右側(cè)通道的總流量Qr即為從入口1流入的未染色液體的流量Q1;調(diào)大入口1引入的連續(xù)相流量,記為Q1+Qt,使染色界面偏移到左側(cè)壓力對比通道,記錄不同Q1+Qt下的界面位置;壓力測試口下游處待測通道左半部分總流量Ql與流阻Rl的乘積和右半部分總流量Qr與流阻Rr的乘積相等,均等于壓力測試口處的表壓強(qiáng)Pg;即,
Ql×Rl=Qr×Rr即Q3×Rl=Q1×Rr (1)
因此,右側(cè)流動阻力Rr得到,并且調(diào)節(jié)入口1的流量后,測壓口處的壓力平衡關(guān)系變?yōu)椋?/p>
(Q3+ΔQ)×Rl=(Q1+Qt-ΔQ)×Rr (2)
其中ΔQ為由于界面變化造成的右側(cè)通道通過測壓口流入左側(cè)壓力對比通道中的流量,由公式(2)計(jì)算得到;
保持入口3引入的流量Q3不變,在右側(cè)通道引入分散相生成微氣泡/液滴,使染色和未染色液體的界面左移到壓力對比通道中,記錄不同工況下的染色液體界面位置,并與右側(cè)通道只引入連續(xù)相時(shí)候的界面位置比對;入口1和入口2的流量分別記為Q1d和Q2d,流動滿足:
(Q3+ΔQ)×Rl=(Q1d+Q2d-ΔQ)×(Rr+Rb) (3)
當(dāng)引入/不引入分散相的兩種情況的界面位置一致時(shí),認(rèn)為兩種工況的ΔQ一致,結(jié)合前面計(jì)算得到的ΔQ和Rr,求出Rb。
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