[發(fā)明專利]添加納米顆粒的耐紫外輻射復合絕緣子材料及制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910033261.6
• 申請日: 2019-01-14
• 公開（公告）號: CN109762338A
• 公開（公告）日: 2019-05-17
• 發(fā)明（設計）人: 張紀偉;劉曉明;李夏雨;貢卓;吳元香;李靜;王延安;曹建梅;陳利;張峰;龍劍橋;陳寧;杜楊康
• 申請（專利權）人: 國網(wǎng)西藏電力有限公司
• 主分類號: C08L83/04
• 分類號: C08L83/04;C08L83/07;C08K13/02;C08K3/22;C08K5/14;C08K3/36;C08K5/5455
• 代理公司: 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201
• 代理人: 杜文茹

1.一種添加納米顆粒的耐紫外輻射復合絕緣子材料，其特征在于，包括，硅橡膠、納米SiO₂、六甲基二硅氮烷、納米TiO₂和雙二五硫化劑，添加比例按照質(zhì)量分數(shù)來計算為：以硅橡膠為單位取xg，x取10g～100g，納米SiO₂為20x％，六甲基二硅氮烷為5x％，納米TiO₂為10x％～40x％，雙二五硫化劑為1x％。

2.根據(jù)權利要求1所述的添加納米顆粒的耐紫外輻射復合絕緣子材料，其特征在于，所述的硅橡膠為甲基硅橡膠或甲基乙烯基硅橡膠或甲基乙烯基苯基硅橡膠中的一種。

3.根據(jù)權利要求1所述的添加納米顆粒的耐紫外輻射復合絕緣子材料，其特征在于，所述的納米SiO₂為含量≥99％、平均粒徑30nm的納米SiO₂或含量≥99％、平均粒徑50nm的納米SiO₂或含量≥99％、平均粒徑100nm的納米SiO₂中的一種。

4.根據(jù)權利要求1所述的添加納米顆粒的耐紫外輻射復合絕緣子材料，其特征在于，所述的納米TiO₂為含量≥92％、平均粒徑20nm、金紅石型的納米TiO₂或含量≥96％、平均粒徑30nm、金紅石型的納米TiO₂或含量≥94％、平均粒徑10nm、銳鈦型的納米TiO₂中的一種。

5.一種權利要求1所述的添加納米顆粒的耐紫外輻射復合絕緣子材料的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)分別計取xg硅橡膠，20x％g納米SiO₂，5x％g六甲基二硅氮烷，10x％g～40x％g納米TiO₂，1x％g雙二五硫化劑；

2)用酒精擦拭雙輥機，啟動雙輥機，輥筒速度設置為10r/min，調(diào)節(jié)兩輪之間的間距為1.5mm，輥筒溫度設置為30℃；

3)待步驟2)所述的輥筒溫度達到30℃后，取步驟1)所述的硅橡膠放置在兩輥中間，雙輥混煉，時間為5min；

4)待步驟3)所述的硅橡膠均勻后，取步驟1)所述的納米SiO₂，均勻加入輥筒之間的硅橡膠中，雙輥混煉30min，同時，用膠頭滴管分3次添加步驟1)所述的六甲基二硅氮烷；

5)待步驟4)所述的納米SiO₂全部添加完畢，雙輥混煉5min后，再均勻加入步驟1)所述的納米TiO₂，待全部納米TiO₂添加完畢，雙輥混煉5min，得到混合材料；

6)用干凈的膠頭滴管取步驟1)所述的雙二五硫化劑，均勻滴在所述的混合材料上，雙輥混煉5min，調(diào)大兩個輥輪間距為2.5mm，鏟下試樣，將試樣卷成牛角包形狀，再次放入輥筒之間混煉，完成之后，從兩輥筒中取下試樣，放入兩片干凈PET薄膜之間；

7)采用壓片機對試樣進行高溫硫化。

6.根據(jù)權利要求5所述的添加納米顆粒的耐紫外輻射復合絕緣子材料的制備方法，其特征在于，步驟6)中所述的再次放入輥筒之間混煉，是重復：將試樣卷成牛角包形狀，再次放入輥筒之間混煉過程3～5次。

7.根據(jù)權利要求5所述的添加納米顆粒的耐紫外輻射復合絕緣子材料的制備方法，其特征在于，步驟7)包括：打開壓片機的溫度控制開關，將壓片機上下壓塊的溫度調(diào)制為145℃，將夾有試樣的PET薄膜放至在壓片機上下壓塊之間，對試樣施壓至20MPa10min，然后關閉壓片機溫度控制開關，靜置試樣，6h后取出試樣，所述的試樣即為添加納米顆粒的耐紫外輻射復合絕緣子材料。