[發(fā)明專利]用于測量特殊能段X光信號的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910032452.0
• 申請日: 2019-01-14
• 公開（公告）號: CN109613596B
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊品;楊正華;黎宇坤;張璐;孫亮;王靜
• 申請（專利權(quán)）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: G01T1/29
• 分類號: G01T1/29;G01T1/36
• 代理公司: 重慶為信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 50216
• 代理人: 蔡冬彥

1.一種用于測量特殊能段X光信號的方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)靶點(3)發(fā)出X光；

2)利用多層膜反射鏡(1)對能點高于設(shè)定最大值的X光進行截止，利用濾片(2)對能點低于設(shè)定最小值的X光進行衰減，其中，所述多層膜反射鏡(1)包括反射鏡基底和貼附在反射鏡基底上的至少三十層膜對，其中，所述反射鏡基底的材料為單晶硅；

當每層所述膜對均包括上下層緊密結(jié)合的W層和Si層、所述濾片(2)的材料為Be或Cu時，多層膜反射鏡(1)對能點高于1keV的X光進行截止，濾片(2)對能點低于500eV的X光進行衰減，每層所述膜對的厚度均為4.1nm，其中，W層的厚度為1.05nm～1.15nm，Si層的厚度為2.95nm～3.05nm，所述多層膜反射鏡(1)的X光入射角為9.5°～10.5°，當所述濾片(2)的材料為Be時，濾片(2)的厚度為20μm～30μm；當所述濾片(2)的材料為Cu時，濾片(2)的厚度為1μm～2μm；

當每層所述膜對均包括上下層緊密結(jié)合的B₄C層和Ni層、所述濾片(2)的材料為Be時，多層膜反射鏡(1)對能點高于1keV且處于金M帶以外的X光進行截止，濾片(2)對能點低于1keV的X光進行衰減，每層所述膜對的厚度均為3.7nm，其中，B₄C層的厚度為2.45nm～2.65nm，Ni層的厚度為1.05nm～1.25nm，所述多層膜反射鏡(1)的X光入射角為3°～5°；

3)利用記錄設(shè)備(4)記錄獲取到的X光信號。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于測量特殊能段X光信號的方法，其特征在于：所述反射鏡基底的表面粗糙度小于等于0.3nm。